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COMPOSTOS DE MARCAÇÃO E SEU USO EM ENSAIOS

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · GB2014053031

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Application data

Number

112016006955

Type

Invention Patent

Filing

10/08/2014

Publication

08/01/2017

PCT

GB2014053031

View on INPI

Progress at the INPI

Filing10/08/14
Publication08/01/17
Abandoned
Allowance
Grant
In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 11/26/2019. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

ATLAS GENETICS LIMITED

Inventors

B. M. (pessoa física)

C. F. (pessoa física)

J. S. (pessoa física)

Technical data

IPC Classification

C07F 17/02 C12Q 1/68

Priority claims

1317787.8 · 10/08/2013

1413931.5 · 08/06/2014

Abstract

RESUMOCOMPOSTOS DE MARCAÇÃO E SEU USO EM ENSAIOSA invenção fornece compostos de monoferrocenil de fórmula geral (I). A invenção também fornece substratos marcados com os compostos, derivados funcionalizados dos compostos e métodos para o uso dos compostos, dos derivados funcionalizados e dos substratos marcados em ensaios eletroquímicos.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2535 de 06-08-2019 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

11/26/2019

RPI 2551

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 5ª anuidade.

08/06/2019

RPI 2535

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.

08/01/2017

RPI 2430

Alteração de dados cadastrais

#1.1

04/12/2016

RPI 2362

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