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Official data from INPI

MÉTODO PARA GERAÇÃO E MANUTENÇÃO DE UM CAMPO MAGNÉTICO

ExtintaInvention PatentPCT · US2014057157

Application data

Number

112016006680

Type

Invention Patent

Filing

09/24/2014

Publication

08/01/2017

PCT

US2014057157

Progress at the INPI

  1. Filing09/24/14
  2. Publication08/01/17
  3. Examination
  4. Allowance12/08/20
  5. Grant01/26/21
  6. Terminated11/18/25

The patent was granted on 01/26/2021 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 11/18/2025. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

TAE TECHNOLOGIES, INC.

US

TRI ALPHA ENERGY, INC.

US

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Inventors

A. S. (pessoa física)

US

D. B. (pessoa física)

US

E. G. (pessoa física)

US

H. G. (pessoa física)

US

M. T. (pessoa física)

US

M. B. (pessoa física)

US

S. P. (pessoa física)

US

Technical data

IPC Classification

Priority claims

US

61/881.874 · 09/24/2013

US

62/001.583 · 05/21/2014

Abstract

RESUMOSISTEMAS E MÉTODOS PARA FORMAÇÃO E MANUTENÇÃO DE UMA CCR DE ALTO DESEMPENHOTrata-se de um sistema de configuração de campo reverso (CCR) de alto desempenho que inclui um recipiente de confinamento central (100), duas seções de formação tipo theta-pinch de campo reverso diametralmente opostas (200) acopladas ao recipiente (100) e duas câmaras derivadoras (300) acopladas às seções de formação (200). Um sistema magnético inclui bobinas semi-dc (412, 414, 416) axialmente posicionadas ao longo dos componentes do sistema de CCR, bobinas de reflexão semi-dc (420) entre a câmara de confinamento (100) e as seções de formação, e plugues de espelho entre as seções de formação e os derivadores. As seções de formação (200) incluem sistemas de formação de potência pulsada modular que permitem uma formação estática e dinâmica e a aceleração das CCRs. O sistema de CCR inclui, ainda, injetores de feixe de átomo neutro (610, 640), injetores de péletes (700), sistemas de absorção (810, 820), pistolas de plasma axiais e eletrodos de polarização superficiais de fluxo. De preferência, os injetores de feixe são angulados em direção ao plano intermediário da câmara. Em operação, os parâmetros de plasma de CCR incluindo energia térmica de plasma, números totais de partícula, raio e fluxo magnético aprisionado, são sustentáveis em ou ao redor de um valor constante sem decaimento durante a injeção de feixe neutro.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2846 de 22-07-2025 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

11/18/2025

RPI 2863

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 11ª anuidade.

07/22/2025

RPI 2846

Concessão da patente

#16.1

20 (vinte) anos contados a partir de 24/09/2014, observadas as condições legais

01/26/2021

RPI 2612

Deferimento

#9.1

12/08/2020

RPI 2605

Exigência preliminar

#6.21

05/19/2020

RPI 2576

Alteração de nome deferida

#25.4

05/12/2020

RPI 2575

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

11/06/2018

RPI 2496

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.

08/01/2017

RPI 2430

Alteração de dados cadastrais

#1.1

04/05/2016

RPI 2361

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