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MÉTODO PARA REMOÇÃO DE UNHA ARTIFICIAL, COMPOSIÇÃO DE UNHA ARTIFICIAL, UNHA ARTIFICIAL, MÉTODO DE FORMAÇÃO DE UNHA ARTIFICIAL, E KIT DA TÉCNICA PARA UNHA

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · JP2014065296

Application data

Number

112015030839

Type

Invention Patent

Filing

06/10/2014

Publication

07/25/2017

PCT

JP2014065296

Progress at the INPI

  1. Filing06/10/14
  2. Publication07/25/17
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 07/20/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

F. C. (pessoa física)

JP

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Inventors

H. O. (pessoa física)

JP

Technical data

Priority claims

JP

2013-123412 · 06/12/2013

Abstract

RESUMOMÉTODO PARA REMOÇÃO DE UNHA ARTIFICIAL, COMPOSIÇÃO DE UNHA ARTIFICIAL, UNHA ARTIFICIAL, MÉTODO DE FORMAÇÃO DE UNHA ARTIFICIAL, E KIT DA TÉCNICA PARA UNHAUm objetivo da invenção é fornecer um método de remoção de unha artificial pelo qual o peso na ponta do dedo ou unha é reduzido sem comprometer o mérito do brilho de decorações de unha, e sem usar acetona no momento da remoção. Um outro objetivo da invenção é fornecer um kit da técnica para unha e uma composição de unha artificial que são usados para o método de remoção de unha artificial, e uma unha artificial que usa a composição de unha artificial.Divulga-se um método de remoção de unha artificial incluindo uma etapa de aplicar uma composição de unha artificial em ou acima da unha de um ser humano ou um animal, ou em ou acima de um suporte para formar uma película de revestimento; uma etapa de secar e/ou expor à luz a película de revestimento, e desse modo formando uma unha artificial; e uma etapa de remoção de remover a unha artificial levando-se a unha artificial em contato com um líquido de remoção, em que a composição de unha artificial inclui (Componente A) um composto tendo um grupo etilenicamente insaturado e um grupo ácido, e/ou (Componente B) um polímero tendo um grupo ácido, e o líquido de remoção é uma solução aquosa tendo um pH de 8 a 11.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Adição na publicação

#15.35

07/20/2021

RPI 2637

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2517 de 02-04-2019 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

07/23/2019

RPI 2533

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 5ª anuidade.

04/02/2019

RPI 2517

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

02/27/2018

RPI 2460

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.

07/25/2017

RPI 2429

Alteração de dados cadastrais

#1.1

01/05/2016

RPI 2348

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