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Official data from INPI

DISPOSITIVO DE BOMBARDEIO DE ÍONS E MÉTODO PARA UTILIZAÇÃO DO MESMO PARA LIMPAR SUPERFÍCIE DE SUBSTRATO

ArquivadaInvention PatentPCT · JP2014000047

Application data

Invention Patent DISPOSITIVO DE BOMBARDEIO DE ÍONS E MÉTODO PARA UTILIZAÇÃO DO MESMO PARA LIMPAR SUPERFÍCIE DE SUBSTRATO de KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.) — IPC C23C 14/02
Invention Patent DISPOSITIVO DE BOMBARDEIO DE ÍONS E MÉTODO PARA UTILIZAÇÃO DO MESMO PARA LIMPAR SUPERFÍCIE DE SUBSTRATO de KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.) — IPC C23C 14/02. Drawing published by the INPI in the Industrial Property Gazette.

Number

112015019027

Type

Invention Patent

Filing

01/09/2014

Publication

07/18/2017

PCT

JP2014000047

Progress at the INPI

  1. Filing01/09/14
  2. Publication07/18/17
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 02/04/2020. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)

JP

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Inventors

H. N. (pessoa física)

JP

R. C. (pessoa física)

DE

S. H. (pessoa física)

JP

Technical data

IPC Classification

Priority claims

JP

2013-022264 · 02/07/2013

Abstract

RESUMODISPOSITIVO DE BOMBARDEIO DE ÍONS E MÉTODO PARA UTILIZAÇÃO DO MESMO PARA LIMPAR SUPERFÍCIE DE SUBSTRATOÉ fornecido um dispositivo de bombardeio de íons (1) para estabilização e limpeza da superfície de um substrato. O dispositivo é fornecido com o seguinte: uma câmara de vácuo (2); pelo menos um eletrodo (3) que é disposto sobre a face da parede interior da câmara de vácuo (2) e emite elétrons; uma pluralidade de anodos (4) que recebem os elétrons a partir do eletrodo (3) e que são dispostos de modo a enfrentar o eletrodo com o substrato ensanduichado entre os mesmos; e uma pluralidade de fontes de potência de descarga (5) correspondentes aos anodos (4), respectivamente. Cada uma das fontes de potência de descarga (5) é isolada a partir da câmara de vácuo (2) e fornece para o anodo (4) correspondente à fonte de potência de descarga relevante (5) correntes e tensões que podem ser ajustadas independentemente umas das outras, gerando assim uma descarga luminescente entre tal anodo (4) e o eletrodo (3).

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

02/04/2020

RPI 2561

Retificação da notificação da fase nacional - PCT

#1.3.1

Retificação para inclusão de inventor.

11/12/2019

RPI 2549

Exigência preliminar

#6.21

10/22/2019

RPI 2546

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

02/27/2018

RPI 2460

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.

07/18/2017

RPI 2428

Alteração de dados cadastrais

#1.1

08/18/2015

RPI 2328

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