FABRICAÇÃO DE CVD DE NANOTUBOS DE CARBONO DE ÚNICA PAREDE

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Abstract

RESUMOFABRICAÇÃO DE CVD DE NANOTUBOS DE CARBONO DE ÚNICA PAREDETrata-se de um sistema e processo aqui descritos para fornecer uma mistura predeterminada de gás de argônio e hidrogênio de volume variável para um proces-so com base em deposição química de vapor (CVD), que permite o crescimento de estruturas de nanotubos de carbono de parede única (SWCNT). As estruturas de SWCNT de exemplo desse sistema e método são fabricadas com um grau de con-trole sobre as emissões de campo produzidas pelo SWCNT e a faixa de diâmetros de cada um dos SWCNTs. De maneira específica, os intervalos de diâmetro prede-terminados e as emissões do campo da estrutura de SWCNT correspondem a uma faixa predeterminada das concentrações da mistura de argônio e hidrogênio e a concentração de argônio, respectivamente. Os defeitos e o diâmetro dos SWCNTs normalmente contribuem para as emissões de campo provenientes das estruturas de SWCNT em baixas tensões aplicadas.