MATRIZES E MASSAS DE VEDAÇÃO, À BASE DE POLÍMEROS QUE CONTÊM ENXOFRE, COM UM FOTOINICIADOR, PROCESSO PARA ENDURECIMENTO E REVESTIMENTO, BEM COMO USO DAS MESMAS

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Abstract

MATRIZES E MASSAS DE VEDAÇÃO, À BASE DE POLÍMEROS QUE CONTÊM ENXOFRE, COM UM FOTOINICIADOR, PROCESSO PARA ENDURECIMENTO E REVESTIMENTO, BEM COMO USO DAS MESMAS.A invenção refere-se a processos para endurecimento de uma mistura de matriz e endurecedor, à de polímeros com enxofre, onde o endurecimento se dá sob comando e de modo tão rápido que é obtida superfície livre de aderência da massa de vedação, do início de endurecimento, em tempo sem aderência de 0,05 a 5 min, e processo para revestimento de substrato com mistura de matriz e endurecedor para produção e endurecimento de massa de vedação, onde esta contém polímeros com enxofre, e a mistura é não endurecida com teor de isocianato, onde a matriz não está endurecida e tem polímero básico terminado em mercado à base de poliéter, polissulfeto, copolímeros e/ou misturas destes, onde a matriz não endurecida, endurecedor ou ambos contêm pelo menos um fotoiniciador à base, sob efeito de radiação actínica de alta energia separa pelo menos um radial por molécula à base de amina terciária, da qual é formado um catalisador para processo de endurecimento da massa de vedação, e onde a mistura, do efeito de radiação actínica de alta energia, endurece na faixa de temperatura de -10 a +70ºC, e, do início do endurecimento ela é tomada como massa de vedação. São descritos, também, matrizes A, misturas B, endurecedor e sistemas de massas de vedação, e aeronaves.