(11) 98705-3426
TrademarkIQ iconTrademarkIQ
Back to search
Official data from INPI

DISPOSITIVO DE CONCENTRAÇÃO DE LUZ DE FRESNEL LINEAR COM POTÊNCIA DE MULTIPLICAÇÃO ALTA

ArquivadaInvention PatentPCT · CN2013071799

Application data

Number

112014021744

Type

Invention Patent

Filing

02/22/2013

Publication

06/20/2017

PCT

CN2013071799

Progress at the INPI

  1. Filing02/22/13
  2. Publication06/20/17
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

Talk to a specialist

Latest action published by the INPI: 03/15/2022. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

BEIJING TERASOLAR ENERGY TECHNOLOGIES CO., LTD

CN

Inventors

Q. W. (pessoa física)

CN

Y. L. (pessoa física)

CN

Technical data

IPC Classification

Priority claims

CN

201210054424.7 · 03/02/2012

Abstract

DISPOSITIVO DE CONCENTRAÇÃO DE LUZ DE FRESNEL LINEAR COM POTÊNCIA DE MULTIPLICAÇÃO ALTA.Um dispositivo de concentração de luz de Fresnel linear com potência de rnul tiplicação alta (1, 101, 102, 103), incluindo um campo de refletor (2) e urna unidade de recepção (3), em que o campo de refletor (2) inclui urna pluralidade de arranjos de tiras de refletor de convergência linear unidimensional (4), e é provido com urna unidade de concentração de luz ótica secundária dentro, o valor de altura da unidade de recepção (3) excede à metade do valor de largura do campo de refletor, de modo a se obter urna potência de multiplicação de concentração de luz de convergência primária relativamente alta e urna potência de rnultiplicação de concentração de luz de convergência secundária, desse modo se realizando uma potência de multiplicação de concentração de luz de convergência total alta. Urna concentração de luz de potência de multiplicação alta em um custo baixo pode ser obtida, enquanto o problema severo de eficiência de concentração de luz baixa causada por extinção, a taxa de tolerância e a taxa de sombreamento e o problema de inconveniência em reparo e manutenção do dispositivo são resolvidos.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

03/15/2022

RPI 2671

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

11/09/2021

RPI 2653

Retificação da notificação da fase nacional - PCT

#1.3.1

Retificação da publicação 1.3 da RPI 2424 de 20/06/2017 em relação ao item (54) da mesma

03/16/2021

RPI 2619

Exigência preliminar

#6.21

03/24/2020

RPI 2568

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

12/04/2018

RPI 2500

Retificação da notificação da fase nacional - PCT

#1.3.1

Retificação do despacho 1.3 publicado na RPI nº 2424 para inclusão da informação que tal despacho referiu-se a publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.

07/18/2017

RPI 2428

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.

06/20/2017

RPI 2424

Alteração de dados cadastrais

#1.1

10/29/2014

RPI 2286

Patent monitoring

Track this patent in real time.

Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.