111
Recorrente: O depositante. @Despacho: Recurso conhecido e negado provimento. Mantido o indeferimento do pedido. [111]
06/30/2026
RPI 2895
Application data
Number
112014019549Type
Filing
Publication
PCT
US2012056794 The application was refused on 06/30/2026 and the appeal did not change the decision. The invention was never patented and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 06/30/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
MILLIKEN & COMPANY
US
Inventors
E. T. (pessoa física)
US
G. M. (pessoa física)
US
J. B. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
13/615,765 · 09/14/2012
US
61/597,925 · 02/13/2012
Abstract
RESUMOPatente de Invenção: "COMPOSIÇÕES DE CUIDADO DE LAVAGEM DE ROUPA CONTENDO TINTURAS". Este pedido de patente refere-se às composições de cuidado de lavagem de roupa compreendendo tinturas matizantes de tecidos de carboxilato de tiofeno azo e métodos de tratar um têxtil compreendendo tais composições de cuidado de lavagem de roupa.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Recorrente: O depositante. @Despacho: Recurso conhecido e negado provimento. Mantido o indeferimento do pedido. [111]
06/30/2026
RPI 2895
#12.2
Recurso: 870210077227 - 23/08/2021
08/31/2021
RPI 2643
#9.2
06/22/2021
RPI 2633
#7.1
01/05/2021
RPI 2609
#6.21
08/13/2019
RPI 2536
#6.6.1
03/27/2018
RPI 2464
#1.3.1
Retificação do despacho 1.3 publicado na RPI nº 2424 para inclusão da informação que tal despacho referiu-se a publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.
07/11/2017
RPI 2427
#1.3
Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.
06/20/2017
RPI 2424
#1.1
10/21/2014
RPI 2285
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