Concessão da patente
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 14/12/2012, observadas as condições legais
05/04/2021
RPI 2626
Application data
Number
112014014473Type
Filing
Publication
PCT
JP2012082556 The patent was granted on 05/04/2021 and is in force until 12/14/2032. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:12/14/2032
Latest action published by the INPI: 05/04/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
A. C. (pessoa física)
JP
Inventors
J. D. (pessoa física)
JP
Y. M. (pessoa física)
JP
Y. Y. (pessoa física)
JP
Priority claims
JP
2011-276004 · 12/16/2011
JP
2012-114983 · 05/18/2012
JP
2012-115037 · 05/18/2012
JP
2012-190587 · 08/30/2012
Abstract
SUTIà TENDO SUPERIOR RESISTÃNCIA à VIBRAÃÃO.Provê-se um sutiã que é superior em um efeito de redução de balanço do seio durante a prática de exercÃcios ou, em outras palavras, resistência à vibração. Preferivelmente, provê-se um sutiã tendo também estética e conforto superiores. O sutiã compreende uma seção de resistência à s vibrações especÃfica e é fornecido com: um par de seções de taça, uma seção de junção que conecta os lados frontais centrais das seções de taça um no outro, seções de bojo, e seções de alças no ombro cujas extremidades são conectadas ao par de seções de taça e de seções de bojo.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 14/12/2012, observadas as condições legais
05/04/2021
RPI 2626
#9.1
03/16/2021
RPI 2619
#6.1
11/24/2020
RPI 2603
#6.21
11/19/2019
RPI 2550
#6.6.1
12/04/2018
RPI 2500
#1.3.1
Retificação do despacho 1.3 publicado na RPI nº 2423 para inclusão da informação que tal despacho referiu-se a publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.
06/27/2017
RPI 2425
#1.3
06/13/2017
RPI 2423
#1.1
10/21/2014
RPI 2285
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