111
Recorrente: O depositante. @Despacho: Recurso conhecido e negado provimento. Mantido o indeferimento do pedido. [111]
03/26/2024
RPI 2777
Application data
Number
112014012354Type
Filing
Publication
PCT
JP2012007467 The application was refused on 03/26/2024 and the appeal did not change the decision. The invention was never patented and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 03/26/2024. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
T. T. (pessoa física)
JP
TOSHIBA MITSUBISHI-ELECTRIC INDUSTRIAL SYSTEMS CORPORATION
JP
Inventors
A. K. (pessoa física)
JP
H. I. (pessoa física)
JP
K. H. (pessoa física)
JP
S. Y. (pessoa física)
JP
T. Y. (pessoa física)
JP
Y. T. (pessoa física)
JP
IPC Classification
Priority claims
JP
2011-258147 · 11/25/2011
Abstract
DISPOSITIVO DE MEDIÇÃO DE DISTRIBUIÇÃO DE POTENCIAL DE SUPERFÍCIE E MÉTODO DE MEDIÇÃO DE DISTRIBUIÇÃO DE POTENCIAL DE SUPERFÍCIE. Em um dispositivo de medição de distribuição de potencial de superfície (1) para sistema de redução de campo elétrico (3) de uma máquina elétrica giratória, um cristal Pockels (25) é usado entre um laser (21) e a superfície (local de teste (L)) do sistema de redução de campo elétrico (3). Assim, a intensidade de luz de um feixe laser refletido em um espelho (24) fornecido entre o cristal Pockels (23) e o local de teste (L) corresponde a uma tensão de saída que é a diferença de tensão entre as primeira e segunda superfícies de extremidade do cristal Pockels. Mesmo quando uma tensão de inversor é gerada, usando-se detector de luz (25) tendo uma faixa de frequência capaz de seguir componentes de alta frequência da tensão de pulso do inversor, intensidade de luz é detectada pelo detector de luz. Portanto, da intensidade de luz (tensão de saída), o dispositivo de medição (1) pode medir o potencial de superfície do sistema de redução de campo elétrico (3) no qual uma tensão de pulso do inversor é gerada.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Recorrente: O depositante. @Despacho: Recurso conhecido e negado provimento. Mantido o indeferimento do pedido. [111]
03/26/2024
RPI 2777
#12.2
Recurso: 870210088424 - 24/09/2021
10/05/2021
RPI 2648
#9.2
08/03/2021
RPI 2639
#15.35
06/01/2021
RPI 2630
#7.1
03/09/2021
RPI 2618
#6.21
10/22/2019
RPI 2546
#6.6.1
12/04/2018
RPI 2500
#1.3.1
Retificação do despacho 1.3 publicado na RPI nº 2423 para inclusão da informação que tal despacho referiu-se a publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.
06/20/2017
RPI 2424
#1.3
06/13/2017
RPI 2423
#1.1
08/19/2014
RPI 2276
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