Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao arquivamento publicado na RPI 2501 de 11/12/2018.
04/02/2019
RPI 2517
Application data
Number
112013024103Type
Filing
Publication
PCT
US2012025539 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 04/02/2019. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
T. C. (pessoa física)
US
Inventors
J. C. (pessoa física)
US
T. L. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
13/052,706 · 03/21/2011
Abstract
VÁLVULA DE CONTROLE DE DIAFRAGMA TENDO UMA LOCALIZAÇÃO DE MONTAGEM DE DIAFRAGMA Válvula de controle de diafragma (20) tem uma localização de montagem de diafragma universal, a válvula de controle de diafragma inclui uma touca (44), um corpo de válvula (22), um diafragma (38), e uma arruela de fixação (92). A touca inclui uma primeira superfície de fixação (74) que transita para dentro de uma primeira superfície de retenção anular (78) formada por uma saia (80), e o corpo de válvula inclui uma segunda superfície de fixação (82) que transita para dentro de uma segunda superfície de retenção anular (86) formada por uma aba anular virada para cima (88).
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao arquivamento publicado na RPI 2501 de 11/12/2018.
04/02/2019
RPI 2517
#8.6
Referente à 7ª anuidade.
12/11/2018
RPI 2501
#1.3
12/06/2016
RPI 2396
#1.1
01/07/2014
RPI 2244
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