MÉTODO PARA DESENVOLVER UMA PLACA DE IMPRESSÃO FOTOCURÁVEL PARA PRODUZIR UM PADRÃO EM RELEVO

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Abstract

LAMINADO DE RESINA FOTOSSENSÃVEL E TRATAMENTO TÃRMICO DOMESMO.Uma placa de impressão fotocurável compreendendo uma camada de suporte tendo uma camada fotocurável disposta sobre ela, uma camada de barreira disposta sobre a camada fotocurável, e uma camada de máscara ablativa a laser disposta sobre a parte superior da camada de barreira. O método inclui as etapas de (1) imagear pelo menos uma camada de foto polimerizável através da ablação da camada de máscara ablativa a laser para criar o padrão em relevo na placa de impressão fotocurável e (2) expor a placa de impressão à radiação actínica através da camada de barrei~a e da camada de máscara para reticular seletivamente as porções da camada fotocurável, criando, assim, o padrão em relevo, (3) desenvolver a placa de impressão para remover a camada de barreira, a camada de máscara ablativa a laser e as porções não curadas da camada fotocurável, bem como revelar o padrão em relevo. O método também pode ser usado com um processo de produção de chapa analógica que utiliza um negativo, em vez de uma camada de máscara ablativa.