Adição na publicação
#15.35
06/08/2021
RPI 2631
Application data
Number
112013015578Type
Filing
Publication
PCT
GB2011001744 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
CERAVISION LIMITED
GB
Inventors
A. N. (pessoa física)
GB
B. P. (pessoa física)
GB
IPC Classification
Priority claims
GB
1021811.3 · 12/21/2010
Abstract
FONTE DE LUZ DE PLASMA DE ONDA ELETROMAGNÃTICA DE GUIA DE ONDA LUMINOSA. Um fonte de luz de plasma de onda eletromagnética de guia de onda luminosa tem uma fabricação 1 de folha de quartzo fundido e tubo desenhado. Um invólucro de vazio fechado interior 2 é formado de tubo desenhado de 8 mm de diâmetro exterior, 4 mm de diâmetro interior. Material de plasma excitável de onda eletromagnética é selado no interior do invólucro. A placa de extremidade 5 é circular e tem o invólucro 2 selado em um orifÃcio central nela, o orifÃcio não sendo numerado como tal. Uma placa semelhante 6 é posicionada para deixar um pequeno espaço entre a extremidade interior do invólucro e ela própria. Os dois tubos são concêntricos com as duas placas estendendo perpendicularmente ao seu eixo central. O tubo exterior 7 estende para trás a partir da superfÃcie posterior da placa interior 6 como uma saia 9. Esta estrutura fornece: uma cavidade anular 11 entre as placas, circundando o invólucro de vazio e dentro do tubo exterior; um recesso contornado 13. Acomodado no recesso contornado é um bloco cilÃndrico circular reto 14 de alumina dimensionado para encaixar o recesso com um encaixe deslizante. Uma antena 18 com uma cabeça de botão / T 19 é alojada em um orifÃcio 15 e rebaixo 16 no bloco de alumina. A fabricação de quartzo 1 com o bloco de alumina 14 é acomodada em uma gaiola de Faraday 20 estendendo através da fabricação na placa de extremidade 5 e para trás ao longo do tubo exterior para a extensão da cavidade 10. A gaiola tem uma saia imperfurada 22 estendendo 8 milÃmetros mais para trás do que a saia de quartzo 9.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#15.35
06/08/2021
RPI 2631
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2405 de 07-02-2017 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
05/30/2017
RPI 2421
#8.6
Referente à 5ª anuidade.
02/07/2017
RPI 2405
#1.3
10/04/2016
RPI 2387
#1.1
05/24/2016
RPI 2368
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