Application data
Number
112013001536Type
Filing
Publication
PCT
US2011044805 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 01/21/2020. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
UNIVERSITY OF PITTSBURGH OF THE COMMONWEALTH SYSTEM OF HIGHER EDUCATION
US
Inventors
K. K. (pessoa física)
US
Y. X. (pessoa física)
US
Y. J. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
61/366,809 · 07/22/2010
US
61/412,957 · 11/12/2010
Abstract
Estruturas de Arranjo de Dipolo Vertical, Métodos de Produção de Estruturas de Arranjo de Dipolo Vertical e de Formação de Arranjos de Nano-Aberturas Verticais sobre Grande Ãrea, Dispositivos Fotovoltaicos e Estruturas de Arranjo de Nano-Aberturas de 2D e de Dipolo VerticalUma estrutura de arranjo de dipolo vertical inclui um substrato que suporta uma pelÃcula, que não é composta de um metamaterial de Ãndice negativo. A pelÃcula inclui uma pluralidade de porções orientadas inclinadas e aberturas. Pelo menos duas das porções orientadas inclinadas são separadas por uma abertura e as porções orienta- das inclinadas são configuradas de modo que a radiação incidente é reorientada para uma direção de refração negativa ou positiva.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2543 de 01-10-2019 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
01/21/2020
RPI 2559
#8.6
10/01/2019
RPI 2543
#1.3
Publicação automática código 1.3 conforme Comunicado RPI 2542, de 24/9/2019.
09/24/2019
RPI 2542
#1.1
12/02/2014
RPI 2291
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