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Official data from INPI

Fonte de evaporação por arco tendo alta velocidade de formação de película, método da fabricação de película de revestimento e aparelho de formação de película usando a fonte de evaporação por arco

ExtintaInvention PatentPCT · JP2011003403

Application data

Number

112012033035

Type

Invention Patent

Filing

06/15/2011

Publication

12/20/2016

PCT

JP2011003403

Progress at the INPI

  1. Filing06/15/11
  2. Publication12/20/16
  3. Examination
  4. Allowance10/29/19
  5. Grant12/03/19
  6. Terminated07/29/25

The patent was granted on 12/03/2019 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 07/29/2025. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)

JP

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Inventors

H. N. (pessoa física)

JP

K. Y. (pessoa física)

JP

N. G. (pessoa física)

JP

S. T. (pessoa física)

JP

Y. K. (pessoa física)

JP

Technical data

IPC Classification

Priority claims

JP

2010-142614 · 06/23/2010

JP

2010-201946 · 09/09/2010

Abstract

FONTE DE ARCO DE EVAPORAÇÃO COM VELOCIDADE RÁPIDA DE FORMAÇÃO DE PELÍCULA, DISPOSITIVO DE FORMAÇÃO DE PELÍCULA E MÉTODO DA FABRICAÇÃO DE PELÍCULA DE REVESTIMENTO USANDO A FONTE DE ARCO DE EVAPORAÇÃO. É revelad uma fonte de arco de evaporação tendo um rápido formado de filme. A fonte de arco de evaporação revelada (1) é fornecida com: pelo menos um imã de circunferência (3) tal que circunda a circunferência do alvo (2), e que colococada de modo que a direção da magnetização do imã corra ao longo da direção ortogonal da superfície do alvo (2); um primeiro imã permanente de forma nao circular (4A) que é colocado na superfície traseira do alvo (2), tem polaridade na mesma direção conforme a polaridade do imã de circunferência (3), e é colocado de modo que a direção de magnetização do mesmo percorra ao longo da direção ortogonal para a superfície do alvo (2); o segundo imã permanente de formato não circular (4B)que é colocado ou na superfície traseira do primeiro imã permanente (4A) ou entre o primeiro imã permanente (4A) e o alvo (2), de modo a deixar um espaço entre o primeiro imã permanente (4A), e que te a polaridade na mesma direção que a polaridade do imã de circunferência (3), e está disposto de modo que a direção de magnetização do mesmo corre ao longo da direção ortogonal da superfície do alvo (2), e um corpo magnético (5), que está disposta entre o primeiro imã permanente (4A) e o segundo imã permanente (4B).

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2831 de 08-04-2025 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

07/29/2025

RPI 2847

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 14ª anuidade.

04/08/2025

RPI 2831

Concessão da patente

#16.1

20 (vinte) anos contados a partir de 15/06/2011, observadas as condições legais

12/03/2019

RPI 2552

Deferimento

#9.1

10/29/2019

RPI 2547

6.20

03/12/2019

RPI 2514

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

04/10/2018

RPI 2466

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

12/20/2016

RPI 2398

Alteração de dados cadastrais

#1.1

12/31/2013

RPI 2243

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