Concessão da patente
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 21/06/2011, observadas as condições legais. Patente concedida conforme ADI 5.529/DF, que determina a alteração do prazo de concessão.
06/27/2023
RPI 2738
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Official data from INPI
ÓXIDO DE BIS(ACIL)FOSFINA LÍQUIDO E COMPOSIÇÃO CURÁVEL POR RADIAÇÃO
ConcedidaInvention PatentPCT · US2011041150
Application data
Number
112012029159Type
Invention Patent
Filing
06/21/2011
Publication
02/21/2017
PCT
US2011041150 Progress at the INPI
- Filing06/21/11
- Publication02/21/17
- Examination
- Allowance05/16/23
- Grant06/27/23
- In force06/21/31
The patent was granted on 06/27/2023 and is in force until 06/21/2031. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:06/21/2031
Latest action published by the INPI: 06/27/2023. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
COVESTRO (NETHERLANDS) B.V.
NL
DSM IP ASSETS B.V.
NL
Inventors
T. B. (pessoa física)
US
Technical data
IPC Classification
Priority claims
EP
10169846.2 · 07/16/2010
US
61/359,944 · 06/30/2010
Abstract
FOTOINICIADOR DE BAPO LÍQUIDO D1492 E SEU USO EM COMPOSIÇÕES CURÁVEIS POR RADIAÇÃO. A invenção refere-se a um óxido de bis (acil) fosina líquido de fórmula (I) : em que R é C ~1~-C ~18~ alquila, e em que R é opcionalmente substituído como aqui descrito. A invenção também diz respeito a composições curáveis por radiação compreendendo óxido de bis (acil) fosfina líquido de fórmula (I).
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Deferimento
#9.1
05/16/2023
RPI 2732
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
10/04/2022
RPI 2700
Alteração de sede deferida
#25.7
05/10/2022
RPI 2679
Transferência deferida
#25.1
04/19/2022
RPI 2676
Exigência preliminar
#6.21
03/17/2020
RPI 2567
Notificação de acesso ao patrimônio genético
#6.6.1
04/10/2018
RPI 2466
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
02/21/2017
RPI 2407
Alteração de dados cadastrais
#1.1
12/31/2013
RPI 2243
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