Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao arquivamento publicado na RPI 2510 de 12/02/2019.
06/04/2019
RPI 2526
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Official data from INPI
COMPOSIÇÃO DETERGENTE SÓLIDA MODERADAMENTE ALCALINA COM BAIXO TEOR DE BUILDER PARA TRATAMENTO DE TECIDOS QUE COMPREENDE PERIDROLASE
Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · US2011032426
Application data
Number
112012026756Type
Invention Patent
Filing
04/14/2011
Publication
07/12/2016
PCT
US2011032426 Progress at the INPI
- Filing04/14/11
- Publication07/12/16
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 06/04/2019. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
The Protecter & Gamble Company
US
Inventors
N. L. (pessoa física)
GB
Technical data
IPC Classification
Priority claims
EP
10160316.5 · 04/19/2010
Abstract
COMPOSIÇÃO DETERGENTE SÓLIDA MODERADAMENTE ALCALINA COM BAIXO TEOR DE BUILDER PARA TRATAMENTO DE TECIDOS QUE COMPREENDE PERIDROLASE. A presente invenção refere-se a uma composição detergente sólida para tratamento de tecidos que compreende: (i) tensoativo detersivo; (ii) peridrolase; (iii) substrato para peridrolase; (iv) fonte de peróxido de hidrogênio; (v) de 0% em peso a 10% em peso de builder à base de zeólito; (vi) de 0% em peso a 10% em peso de builder á base de fosfato; e (vii) opcionalmente, de 0% em peso a 10% em peso de sal silicato, sendo que com a diluição em água desionizada em uma concentração de 1% em peso a 20°C, a composição tem um pH na faixa de 7,6 a 8,8.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente à 8ª anuidade.
02/12/2019
RPI 2510
Notificação de acesso ao patrimônio genético
#6.6.1
04/10/2018
RPI 2466
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
07/12/2016
RPI 2375
Alteração de dados cadastrais
#1.1
07/02/2013
RPI 2217
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