Adição na publicação
#15.35
06/01/2021
RPI 2630
Application data
Number
112012014106Type
Filing
Publication
PCT
EP2010068993 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 06/01/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Spawnt Private S.A.R.L.
LU
Inventors
A. L. (pessoa física)
DE
C. B. (pessoa física)
DE
J. M. (pessoa física)
DE
R. D. (pessoa física)
DE
S. H. (pessoa física)
DE
IPC Classification
Priority claims
DE
10 2009 056 731.3 · 12/04/2009
Abstract
PROCESSO PARA PREPARAÇÃO DE POLISSILANAS HALOGENADAS. A presente invenção refere-se a um processo para preparação de polissilanas halogenadas como composto puro ou mistura de compostos, que apresentam uma pureza particular em relação, entre outros, a compostos contendo boro. Uma forma de execução da invenção coloca à disposição um processo para preparação de uma polissilana halogenada da fórmula geral HpSIn-pX(2N+2)-P1 com n = 1 até 50;0 < p < 2n+1 e x = F, CI, Br, I, como um composto individual ou uma mistura de compostos a partir de uma mistura, onde a mistura já contém a polissilana halogenada ou a polissilana halogenada é formada na mistura. A mistura adicionalmente contém impurezas contendo boro. O processo abrange assim as etapas do processo de c) reação da mistura com pelo menos 1 ppbw (partes por bilhão por peso) de um agente de oxidação formador de siloxana ou da própria siloxana, sendo que as impurezas contendo boro formam compostos com as siloxanas, com uma volatilidade e/ou solubilidade diferente daquela das polissilanas halogenadas e, d) separação das polissilanas halogenadas desses compostos, onde durante o processo estão presentes um máximo de 1 ppmw de água e um mínimo de 1 ppbw de siloxanas.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#15.35
06/01/2021
RPI 2630
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2389 de 18-10-2016 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
02/07/2017
RPI 2405
#8.6
Referente à 6ª anuidade.
10/18/2016
RPI 2389
#1.3
07/05/2016
RPI 2374
#1.1
12/31/2013
RPI 2243
From the same holder
Same category
Patent monitoring
Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.