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Official data from INPI

DISPOSITIVO E UTILIZAÇÃO DE UM DISPOSITIVO DE TRATAMENTO DE SUPERFÍCIE DE UM SUBSTRATO POR DESCARGA COM BARREIRA DIELÉTRICA E UM PROCESSO PARA O DEPÓSITO DE UMA CAMADA SOBRE UM SUBSTRATO INORGÂNICO

ExtintaInvention PatentPCT · EP2010068049

Application data

Number

112012012496

Type

Invention Patent

Filing

11/23/2010

Publication

04/12/2016

PCT

EP2010068049

Progress at the INPI

  1. Filing11/23/10
  2. Publication04/12/16
  3. Examination
  4. Allowance06/09/20
  5. Grant11/17/20
  6. Terminated01/09/24

The patent was granted on 11/17/2020 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 01/09/2024. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

A. E. (pessoa física)

BE

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Inventors

E. M. (pessoa física)

BE

E. T. (pessoa física)

BE

J. L. (pessoa física)

BE

Technical data

IPC Classification

Priority claims

EP

09176940.6 · 11/24/2009

EP

10153448.5 · 02/12/2010

Abstract

PROCESSO E DISPOSITIVO DE POLARIZAÃÃO DE UM ELETRODO DBD.A invenção se refere a um dispositivo de tratamento de superfície de um substrato por descarga com barreira dielétrica, permitindo a geração de plasma filamentar, compreendendo uma câmara de reação, que comporta uma mistura, cuja composição é tal que, em contato com o plasma, se decompões e engendra espécies aptas a se depositarem em camada em grande parte ou na totalidade sobre o substrato, câmara na qual são colocados pelo menis dois eletrodos, dos quais um é levado à alta tensão AC, disposta de ambos os lados do substrato, pelo menos uma barreira dielétrica (DBD) colocada entre pelo menos esses dois eletrodos, e um transformador THT/HF, que comporta um circuito secundário, no qual uma fonte de corrente contínua (DC) é intercalada em série no circuito secundário, de forma tal que espécies químicas geradas no plasma sob formas de íons eletricamente positivos ou negativos sejam seletivamente atraídas pelo substrato alvo, o qual é introduzido na câmara de reação e colocado entre pelo menos os dois eletrodos, e empurrados pelos eletrodos de carga correspondente.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2750 de 19-09-2023 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

01/09/2024

RPI 2766

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 13ª anuidade.

09/19/2023

RPI 2750

Concessão da patente

#16.1

20 (vinte) anos contados a partir de 23/11/2010, observadas as condições legais

11/17/2020

RPI 2602

Deferimento

#9.1

06/09/2020

RPI 2579

Exigência preliminar

#6.21

11/26/2019

RPI 2551

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

01/08/2019

RPI 2505

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

04/12/2016

RPI 2362

Alteração de dados cadastrais

#1.1

01/07/2014

RPI 2244

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