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Official data from INPI

APARELHO DE GERAÇÃO DE PLASMA E USO DE UM APARELHO DE GERAÇÃO DE PLASMA

ArquivadaInvention PatentPCT · GB2010002031

Application data

Number

112012010526

Type

Invention Patent

Filing

11/03/2010

Publication

03/15/2016

PCT

GB2010002031

Progress at the INPI

  1. Filing11/03/10
  2. Publication03/15/16
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 03/17/2020. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

THE UNIVERSITY COURT OF THE UNIVERSITY OF GLASGOW

GB

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Inventors

D. D. (pessoa física)

GB

H. P. (pessoa física)

GB

Technical data

IPC Classification

Priority claims

GB

0919274.1 · 11/03/2009

Abstract

APARELHO DE GERAÃÃO DE PLASMA E USO DE UM APARELHO DE GERAÃÃO DE PLASMA. Um aparelho de geração de plasma compreende um primeiro eletrodo alimentado e uma estrutura de segundo eletrodo localizada na frente do primeiro eletrodo. Uma camada isolante é interposta entre o primeiro eletrodo e a estrutura do segundo eletrodo. A estrutura do segundo eletrodo possui uma pluralidade de partes do segundo eletrodo definindo as parte de intervalo entre elas. A largura das partes de intervalos é w. As partes do segundo eletrodo possuem, cada uma, uma superfície anterior e as partes de intervalo tendo, cada uma, uma superfície anterior, a diferença de altura entre a superfície anterior de cada parte do segundo eletrodo e as superfícies anteriores das partes de intervalos adjacentes sendo h, e em que h é de no máximo 1 milímetro e a razão w I h é de pelo menos 1.Assim,as superfícies anteriores das partes do segundo eletrodo e as superfícies anteriores das partes de intervalos em conjunto fornecem uma topografia suave. O plasma gerado pelo aparelho (no ar ou outro gás contendo oxigénio) forma o ozônio, que pode ser utilizado para tratar a produtos alimentícios, por exemplo. A topografia suave permite que substancialmente todo o plasma seja gerado dentro de uma embalagem, cuja parede é pressionada contra a estrutura do segundo eletrodo.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

03/17/2020

RPI 2567

Exigência preliminar

#6.21

11/26/2019

RPI 2551

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

01/08/2019

RPI 2505

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

03/15/2016

RPI 2358

Alteração de dados cadastrais

#1.1

01/07/2014

RPI 2244

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