Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
03/17/2020
RPI 2567
Application data
Number
112012010526Type
Filing
Publication
PCT
GB2010002031 The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
THE UNIVERSITY COURT OF THE UNIVERSITY OF GLASGOW
GB
Inventors
D. D. (pessoa física)
GB
H. P. (pessoa física)
GB
IPC Classification
Priority claims
GB
0919274.1 · 11/03/2009
Abstract
APARELHO DE GERAÃÃO DE PLASMA E USO DE UM APARELHO DE GERAÃÃO DE PLASMA. Um aparelho de geração de plasma compreende um primeiro eletrodo alimentado e uma estrutura de segundo eletrodo localizada na frente do primeiro eletrodo. Uma camada isolante é interposta entre o primeiro eletrodo e a estrutura do segundo eletrodo. A estrutura do segundo eletrodo possui uma pluralidade de partes do segundo eletrodo definindo as parte de intervalo entre elas. A largura das partes de intervalos é w. As partes do segundo eletrodo possuem, cada uma, uma superfÃcie anterior e as partes de intervalo tendo, cada uma, uma superfÃcie anterior, a diferença de altura entre a superfÃcie anterior de cada parte do segundo eletrodo e as superfÃcies anteriores das partes de intervalos adjacentes sendo h, e em que h é de no máximo 1 milÃmetro e a razão w I h é de pelo menos 1.Assim,as superfÃcies anteriores das partes do segundo eletrodo e as superfÃcies anteriores das partes de intervalos em conjunto fornecem uma topografia suave. O plasma gerado pelo aparelho (no ar ou outro gás contendo oxigénio) forma o ozônio, que pode ser utilizado para tratar a produtos alimentÃcios, por exemplo. A topografia suave permite que substancialmente todo o plasma seja gerado dentro de uma embalagem, cuja parede é pressionada contra a estrutura do segundo eletrodo.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.2
03/17/2020
RPI 2567
#6.21
11/26/2019
RPI 2551
#6.6.1
01/08/2019
RPI 2505
#1.3
03/15/2016
RPI 2358
#1.1
01/07/2014
RPI 2244
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