APARELHO DE CVD

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Abstract

APARELHO DE DEPOSIÇÃO QUÍMICA EM FASE VAPOR (CVD)Um aparelho de CVD (1) é dotado de: uma pluralidade de unidaedes de câmara de depósito (6) que compreende cada, um rolete de depósito (2, 2) conectado a uma fonte de energia de plasma e uma câmara de unidade para depósito (6) alojando o rolete de depósito (2, 2), e são dispostos de tal modo que os roletes de depósito (2, 2) formem uma linha em uma direção horizontal; e uma unidade de câmara de conexão (7) que compreende uma câmara de unidade para conexão (70) acoplada à câmara de unidade para depósito (60) da unidade de câmara de depósito (6) e disposta entre as unidades de câmara de depósito adjacentes (6) para conectar as unidades de câmara de depósito (6). Um substrato (W) é transferido enquanto sendo rolado em torno dos respectivos roletes de depósito (2, 2) das respectivas unidades de câmara de depósito (6), e as unidades de câmara de depósito (6) decompõem gás de fonte por plasma gerado prómixo aos roletes de depósito (2, 2) para executar processamento de depósito no substrato nos roletes de depósito (2, 2).