Publicação do pedido de patente
#3.1
12/17/2024
RPI 2815
Application data
Number
102023011847Type
Filing
Publication
The application was published in the RPI gazette on 12/17/2024 and is now open to any interested party. It moves on to technical examination at the INPI.
Latest action published by the INPI: 12/17/2024. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
U. P. (pessoa física)
PI, BR
U. N. (pessoa física)
RN, BR
Inventors
J. N. (pessoa física)
BR
L. L. (pessoa física)
BR
M. L. (pessoa física)
BR
M. F. (pessoa física)
BR
R. S. (pessoa física)
BR
R. N. (pessoa física)
BR
T. C. (pessoa física)
BR
IPC Classification
Abstract
NOVA CONFIGURAÇÃO DE TRATAMENTO POR PLASMA DENOMINADO DE CILINDROS CATÓDICOS (CCy). A nova configuração de tratamento por plasma por cilindros catódicos (CCy) proposta por esta patente modifica o atual sistema de deposição por gaiola catódica (CCPD - Cathodic Cage Plasma Deposition) comumente adotado em pesquisas no campo de modificação superficial por plasma. O novo processo denominado de Deposição por Plasma com Cilindros Catódicos (CCyPD - Cathodic Cylinder Plasma Deposition) parte da fabricação de pequenos cilindros de pós-compactados que são posicionados sobre a tampa suporte da gaiola catódica. No processo de deposição, o efeito de cátodo oco ocorre no interior dos cilindros promovendo o arrancamento do material que será combinado com elementos da atmosfera gasosa e/ou depositado sobre a amostra. O CCyPD, portanto, contribui para o estudo de novos revestimentos compostos devido à possibilidade de obtenção e combinação de materiais na forma de pó antes não explorados por limitações na fabricação de gaiolas por meio dos métodos anteriormente adotados.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#3.1
12/17/2024
RPI 2815
#2.1
08/08/2023
RPI 2744
#2.10
Número de Protocolo '870230051142' em 15/06/2023 11:43 (WB)
06/27/2023
RPI 2738
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