Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
06/16/2026
RPI 2893
Application data
Number
102023006420Type
Filing
Publication
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 06/16/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
MILTON ROY, LLC
US
Inventors
J. S. (pessoa física)
US
W. B. (pessoa física)
US
Priority claims
US
18/191,113 · 03/28/2023
US
63/328,425 · 04/07/2022
Abstract
CONJUNTO DIELÉTRICO PARA REATOR DE PLASMA NÃO TÉRMICO. Um conjunto dielétrico para um reator de plasma inclui uma primeira camada dielétrica que tem uma primeira superfície e uma segunda superfície oposta à primeira superfície, uma segunda camada dielétrica, mais fina do que a primeira camada dielétrica, tem uma terceira superfície e uma quarta superfície oposta à terceira superfície e um eletrodo localizado entre a segunda superfície e a terceira superfície. O eletrodo pode estar em formato de anel e/ou localizado sobre uma superfície esférica. Um revestimento não reativo pode estar localizado sobre uma superfície do conjunto dielétrico exposto a uma câmara de plasma do reator de plasma. O revestimento pode ser posicionado na forma de anéis com um espaço entre cada anel.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
06/16/2026
RPI 2893
#8.6
Referente à 3ª anuidade.
02/10/2026
RPI 2875
#25.7
06/18/2024
RPI 2789
#3.1
02/06/2024
RPI 2770
#2.1
06/06/2023
RPI 2735
#2.10
Número de Protocolo '870230028850' em 05/04/2023 16:14 (WB)
04/18/2023
RPI 2728
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