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Official data from INPI

MÉTODO DE TRATAMENTO DE ESTRIAS

ArquivadaInvention Patent

Application data

Number

102022021393

Type

Invention Patent

Filing

10/21/2022

Publication

04/30/2024

Progress at the INPI

  1. Filing10/21/22
  2. Publication04/30/24
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 10/21/2022 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 01/13/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

C. O. (pessoa física)

SC, BR

Inventors

C. O. (pessoa física)

BR

Technical data

Abstract

MÉTODO DE TRATAMENTO DE ESTRIAS. A presente invenção descreve um método de tratamento de estrias que se utiliza de uma sequência de etapas únicas e inovadoras, baseando-se na aplicação e parametrização de técnicas que proporcionam um efeito sinérgico surpreendente, resultando em vantagens no controle e diminuição de lesões por estrias, contribuindo também na melhoria da autoestima das pessoas tratadas com este método. Para isso, são utilizadas aplicações de agente esfoliante, fluido remineralizante, tratamento com radiofrequência, sérum de limpeza ultradeslizante, aplicação de microagulhamento sobre a área de tratamento, conjuntamente com a permeação de um fluido renovador tissular, aplicação de tratamento de alta frequência sobre a área de tratamento, além de sérum reestruturador sobre a área de tratamento.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

01/13/2026

RPI 2871

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

10/28/2025

RPI 2860

Publicação do pedido de patente

#3.1

04/30/2024

RPI 2782

Pedido de patente depositado

#2.1

11/16/2022

RPI 2706

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870220097312' em 21/10/2022 11:59 (WB)

11/01/2022

RPI 2704

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