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Official data from INPI

SABÃO FOTOSSENSÍVEL, SEU PROCESSO DE PRODUÇÃO E SEU USO FOTOANTIMICROBIANO

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

102021013320

Type

Invention Patent

Filing

07/06/2021

Publication

01/17/2023

Progress at the INPI

  1. Filing07/06/21
  2. Publication01/17/23
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

Talk to a specialist

Latest action published by the INPI: 05/26/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

V. B. (pessoa física)

SP, BR

Inventors

F. S. (pessoa física)

BR

H. B. (pessoa física)

BR

L. D. (pessoa física)

BR

V. B. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

SABÃO FOTOSSENSÍVEL, SEU PROCESSO DE PRODUÇÃO E SEU USO FOTOANTIMICROBIANO. A presente invenção se refere a um processo de produção de um sabão fotossensível e seu uso, sendo essencialmente composto por uma formulação de sabão podendo ser liquido, em barra ou em gel com uma molécula fotossensibilizadora (PS), constituindo um produto final denominado sabão fotossensível (Sn-PSm), que, quando iluminados com fonte de luz com comprimento de onda e dose adequados, promove ação fotoantimicrobiana, eliminando microrganismos presentes em superfícies em geral tais como: espaços públicos, ambientes hospitalares, instrumentação médica, embalagens contaminadas, utensílios/superfícies domésticos, ruas, calçadas, bactérias patogênicas, inclusive superfícies no corpo humano, tais como feridas traumáticas e venosas.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 5ª anuidade.

05/26/2026

RPI 2890

8.7

02/11/2025

RPI 2823

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 3ª anuidade.

10/01/2024

RPI 2804

Desarquivamento

#4.3

Vide Parecer

09/24/2024

RPI 2803

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

07/16/2024

RPI 2793

Publicação do pedido de patente

#3.1

01/17/2023

RPI 2715

Pedido de patente depositado

#2.1

08/31/2021

RPI 2643

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870210061153' em 06/07/2021 11:25 (WB)

07/20/2021

RPI 2637

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