Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
06/06/2023
RPI 2735
Application data
Number
102019025861Type
Filing
Publication
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 12/06/2019 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
THYSSENKRUPP AG
DE
THYSSENKRUPP RASSELSTEIN GMBH
DE
Inventors
A. M. (pessoa física)
DE
C. M. (pessoa física)
DE
IPC Classification
Priority claims
DE
10 2018 132 074.4 · 12/13/2018
Abstract
MÉTODO PARA FABRICAÇÃO DE UMACINTA DE METAL REVESTIDA COM UM REVESTIMENTO FEITO DECROMO E DE ÓXIDO DE CROMO À BASE DE UMA SOLUÇÃO ELETROLÍTICA COM UM COMPOSTO DE CROMO TRIVALENTE.A invenção refere-se a um método para a fabricação de umacinta de metal (M) revestida com um revestimento (B), em que o revestimento (B) contém metal cromo e óxido de cromo e é aplicado eletroliticamente a partir de uma solução eletrolítica (E), que contém um compostode cromo trivalente, sobre a cinta de metal (M ), em que a cinta de metal(M), comutada como cátodo, é colocada em contato com a solução eletrolítica (E) durante um período de eletrólise. Uma deposição eficiente de umrevestimento com uma alta porcentagem de óxido de cromo é alcançadase a cinta de metal (M) for conduzida em uma direção de marcha de cintaatravés de vários tanques de eletrólise (1a a 1h) dispostos sucessivamenteem uma direção de marcha de cinta a uma velocidade predeterminada decinta (v), em que no primeiro tanque de eletrólise (1a) visto na direção demarcha de cinta ou em um grupo dianteiro de tanques de eletrólise (1a,1b) está presente uma baixa densidade de corrente (j1), em um segundotanque de eletrólise (1c) subsequente na direção de marcha de cinta ouem grupo intermediário de tanques de eletrólise (1c-1f) está presente umadensidade de corrente média (j2) e em um último tanque de eletrólise (1h)visto na direção de marcha de cinta ou em um grupo traseiro de tanquesde eletrólise (1g, 1h), está presente uma alta densidade de corrente (j3),onde j1 = j2 < j3 e a baixa densidade de corrente (j1) é superior a 20 A/dm2.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.1.1
06/06/2023
RPI 2735
#11.1
03/21/2023
RPI 2724
#3.1
06/23/2020
RPI 2581
#2.1
03/17/2020
RPI 2567
#2.10
Número de Protocolo '870190129038' em 06/12/2019 13:26 (WB)
12/17/2019
RPI 2554
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