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Official data from INPI

PROCESSO DE OBTENÇÃO DE REVESTIMENTOS À BASE DE SILÍCIO E POLÍMEROS REVESTIDOS OBTIDOS

DeferidaInvention Patent

Application data

Invention Patent PROCESSO DE OBTENÇÃO DE REVESTIMENTOS À BASE DE SILÍCIO E POLÍMEROS REVESTIDOS OBTIDOS — IPC C23C 14/20
Invention Patent PROCESSO DE OBTENÇÃO DE REVESTIMENTOS À BASE DE SILÍCIO E POLÍMEROS REVESTIDOS OBTIDOS — IPC C23C 14/20. Drawing published by the INPI in the Industrial Property Gazette.

Number

102019024929

Type

Invention Patent

Filing

11/26/2019

Publication

06/08/2021

Progress at the INPI

Awaiting grant fee payment
  1. Filing11/26/19
  2. Publication06/08/21
  3. Examination
  4. Allowance05/19/26
  5. Grant
  6. In force

The application was allowed by the INPI on 05/19/2026. The grant of the letters patent is being processed.

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Latest action published by the INPI: 05/26/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

U. F. (pessoa física)

SP, BR

V. B. (pessoa física)

SP, BR

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Inventors

A. O. (pessoa física)

BR

D. M. (pessoa física)

BR

E. C. (pessoa física)

BR

N. C. (pessoa física)

BR

V. P. (pessoa física)

BR

Technical data

Abstract

PROCESSO DE OBTENÇÃO DE REVESTIMENTOS À BASE DE SILÍCIO E POLÍMEROS REVESTIDOS OBTIDOS. A presente invenção refere-se ao processo de obtenção de revestimentos à base de silício, por meio de deposição química de vapor em plasmas de baixa pressão, que promovem melhoria nas propriedades de barreira de materiais poliméricos, tais como a Poliamida 6, devido à formação de camada única de oxicarbeto de silício. Os revestimentos produzidos apresentaram melhorias na propriedade de barreira em, pelo menos, 40%. Estes revestimentos podem ser aplicados principalmente na produção de embalagens com maior barreira ao oxigênio, à vapor dágua e à radiação ultravioleta.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Deferimento (variante)

#9.1.2

Anulada a publicação código 9.1 na RPI nº 2889 de 19/05/2026 por ter sido indevida.

05/26/2026

RPI 2890

Deferimento

#9.1

05/19/2026

RPI 2889

Deferimento

#9.1

05/12/2026

RPI 2888

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

01/06/2026

RPI 2870

8.7

Pelo depositante ter requerido a restauração dentro do prazo legal, através da petição n° 870250092048 de 08/10/2025.

11/04/2025

RPI 2861

8.5

Conforme Portaria 52/2023, o depositante deverá complementar a retribuição da 5ª anuidade, de acordo com tabela vigente, referente a guia de recolhimento 29409162315434226 uma vez que um dos depositantes do pedido de patente não se enquadra no rol de beneficiários que fazem jus à redução de retribuição disposto na resolução 251, de 02/10/2019 (Vide parecer).

08/12/2025

RPI 2849

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

06/17/2025

RPI 2841

6.7

Vide parecer

09/05/2023

RPI 2748

Pedido de patente depositado

#2.1

08/29/2023

RPI 2747

Publicação anulada

#2.6

Anulada a publicação código 2.1 na RPI nº 2572 de 22/04/2020 por ter sido indevida.Anulado o despacho em referência tendo em vista que não houve disponibilização do parecer devido, e considerando ainda que a republicação do mesmo (RPI2746) não foi suficiente para vincular adequadamente o documento faltante.

08/29/2023

RPI 2747

Republicação do depósito

#2.7

Referente ao despacho 2.1 da RPI2572 de 22/04/2020. Republicado tendo em vista que o parecer correspondente a decisão não havia sido disponibilizado.

08/22/2023

RPI 2746

Publicação do pedido de patente

#3.1

06/08/2021

RPI 2631

Pedido de patente depositado

#2.1

04/22/2020

RPI 2572

Exigência - art. 21 da LPI

#2.5

02/27/2020

RPI 2564

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870190123721' em 26/11/2019 17:34 (WB)

12/03/2019

RPI 2552

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