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Official data from INPI

IMPLANTE ORBITAL COMPREENDENDO JANELAS ATRAVESSANTES PARA SUTURAS

ArquivadaInvention Patent

Application data

Invention Patent IMPLANTE ORBITAL COMPREENDENDO JANELAS ATRAVESSANTES PARA SUTURAS de FRANCE CHIRURGIE INSTRUMENTATION SAS (FCI) — IPC A61F 2/00
Invention Patent IMPLANTE ORBITAL COMPREENDENDO JANELAS ATRAVESSANTES PARA SUTURAS de FRANCE CHIRURGIE INSTRUMENTATION SAS (FCI) — IPC A61F 2/00. Drawing published by the INPI in the Industrial Property Gazette.

Number

102019013165

Type

Invention Patent

Filing

06/25/2019

Publication

01/14/2020

Progress at the INPI

  1. Filing06/25/19
  2. Publication01/14/20
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 06/25/2019 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 12/20/2022. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

FRANCE CHIRURGIE INSTRUMENTATION SAS (FCI)

FR

Inventors

A. M. (pessoa física)

FR

Technical data

IPC Classification

Priority claims

FR

18 70778 · 06/29/2018

Abstract

IMPLANTE ORBITAL COMPREENDENDO JANELASATRAVESSANTES PARA SUTURAS. Conjunto tendo um implante orbital de forma substancialmente esférica para substituir um globo ocular após enucleação e/ou evisceração, e pelo menos uma sutura, o implante tendo um corpo básico (1) de um material poroso, que, em particular, encoraja a colonização pelos organismos, e um elemento posterior ou traseiro (2) com janelas atravessantes cobrindo parte do corpo básico, um elemento posterior tendo um número de janelas atravessantes para passagem de pontos para sutura dos músculos oculomotores dentro e fora do espaço entre o corpo básico e o elemento posterior, e definindo para o implante de forma substancialmente esférica, um eixo de referência que passa através de seu centro, um eixo vertical Z correspondente ao eixo anterior-posterior, e dois eixos XY no plano equatorial, uma estrutura de referência em relação da qual os ângulos de latitude e longitude de um ponto na superfície do implante são definidos, o ângulo de longitude do polo mais traseiro e posterior sendo 90°, enquanto o ângulo de longitude de um ponto no equador é de 0°, sendo que o elemento (1) com janelas tem pelo menos uma primeira janela atravessante inferior (7), que se estende para uma primeira faixa inferior de longitudes, e pelo menos uma segunda janela superior (9), que se estende para uma segunda faixa superior de longitudes, e pelo menos um meridiano (M) que se estende a partir do equador para o polo que cruza ou passa através das duas janelas inferiores (7) e janelas superiores (9).

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

12/20/2022

RPI 2711

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

10/04/2022

RPI 2700

Publicação do pedido de patente

#3.1

01/14/2020

RPI 2558

Pedido de patente depositado

#2.1

09/17/2019

RPI 2541

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870190058656' em 25/06/2019 14:00 (WB)

07/02/2019

RPI 2530

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