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MÉTODO E DISPOSIÇÃO PARA O MONITORAMENTO E O CONTROLE DA TEMPERATURA EM FORNOS DE ALTAS TEMPERATURAS, BASEADO EM RADIAÇÃO INFRAVERMELHA

Em AnáliseInvention Patent

Application data

Invention Patent MÉTODO E DISPOSIÇÃO PARA O MONITORAMENTO E O CONTROLE DA TEMPERATURA EM FORNOS DE ALTAS TEMPERATURAS, BASEADO EM RADIAÇÃO INFRAVERMELHA — IPC G01J 5/00
Invention Patent MÉTODO E DISPOSIÇÃO PARA O MONITORAMENTO E O CONTROLE DA TEMPERATURA EM FORNOS DE ALTAS TEMPERATURAS, BASEADO EM RADIAÇÃO INFRAVERMELHA — IPC G01J 5/00. Drawing published by the INPI in the Industrial Property Gazette.

Number

102018009044

Type

Invention Patent

Filing

05/04/2018

Publication

11/19/2019

Progress at the INPI

  1. Filing05/04/18
  2. Publication11/19/19
  3. Examination
  4. Allowance06/11/24
  5. Grant08/27/24
  6. In force05/04/38

The patent was granted on 08/27/2024 and is in force until 05/04/2038. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.

Protection valid until:05/04/2038

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Latest action published by the INPI: 03/17/2026. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

U. P. (pessoa física)

PR, BR

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Inventors

A. M. (pessoa física)

BR

E. O. (pessoa física)

BR

R. S. (pessoa física)

BR

V. F. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

Novo método e disposição para o monitoramento e o controle da temperatura emfornos de altas temperaturas, em especial para fornos de cozimento ou queima decerâmicas, baseado em radiação infravermelha, o qual consiste em um sistema decontrole de temperatura para fornos, de altas temperaturas, com a determinação dadistribuição da temperatura no interior dos mesmos, realizada através da radiaçãoeletromagnética mensurada por uma câmera sensível ao espectro infravermelho, ondeos mecanismos de imageamento utilizam dispositivos Charge-Coupled-Devices (CCDs)convencionais em conjunto com rodas de filtros óticos, que possuem custosextremamente inferiores aos sistemas Focal Plane Arrays (FPAs) atualmente utilizados.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

22.12

Condições contratuais: 1) Royalties: 5% (cinco por cento) do lucro, livre de impostos ou valor fixo acertado entre as partes; 2) Prazo: até o término de vigência da patgente, em 04/05/2038; 3) Condições de pagamento: anual em função das vendas apuradas no período; 4) Disponibilidade de ?know-how?: sim; 5) Assistência técnica: não. --- Obs: Consulta à Carta Patente poderá ser feita através do endereço eletrônico www.inpi.gov.br - No acesso rápido => Busca de processos => Faça login com senha ou tecle Continuar => Patente => Digite o número do processo => Pesquisar. Para acessar, cadastre-se no portal do INPI.

03/17/2026

RPI 2880

22.12

Oferta de licença de patente (Referente à petição nº 870250014049 de 20/02/2025 - Condições contratuais: 1) Royalties: 5% (cinco por cento) do lucro, livre de impostos ou valor fixo acertado entre as partes; 2) Prazo: até o término de vigência da patgente, em 04/05/2038; 3) Condições de pagamento: anual em função das vendas apuradas no período; 4) Disponibilidade de ?know-how?: sim; 5) Assistência técnica: não. --- Obs: Consulta à Carta Patente poderá ser feita através do endereço eletrônico www.inpi.gov.br - No acesso rápido => Busca de processos => Faça login com senha ou tecle Continuar => Patente => Digite o número do processo => Pesquisar. Para acessar, cadastre-se no portal do INPI.

09/16/2025

RPI 2854

22.12

Referente à petição nº 870250014049 de 20/02/2025 - Condições contratuais: 1) Royalties: 5% (cinco por cento) do lucro, livre de impostos ou valor fixo acertado entre as partes; 2) Prazo: até o término de vigência da patgente, em 04/05/2038; 3) Condições de pagamento: anual em função das vendas apuradas no período; 4) Disponibilidade de ?know-how?: sim; 5) Assistência técnica: não. --- Obs: Consulta à Carta Patente poderá ser feita através do endereço eletrônico www.inpi.gov.br - No acesso rápido => Busca de processos => Faça login com senha ou tecle Continuar => Patente => Digite o número do processo => Pesquisar. Para acessar, cadastre-se no portal do INPI.

03/06/2025

RPI 2826

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 04/05/2018, observadas as condições legais

08/27/2024

RPI 2799

Deferimento

#9.1

06/11/2024

RPI 2788

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

03/12/2024

RPI 2775

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

10/17/2023

RPI 2754

Publicação do pedido de patente

#3.1

11/19/2019

RPI 2550

Pedido de patente depositado

#2.1

06/05/2018

RPI 2474

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870180036487' em 04/05/2018 10:32 (WB)

05/15/2018

RPI 2471

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