Invention Patent PROCESSO DE DIFUSÃO DE DOPANTE TIPO P E TIPO N EM LÂMINAS DE SILÍCIO NA MESMA ETAPA TÉRMICA de ELETROSUL CENTRAIS ELETRICAS S/A — IPC H01L 21/00. Drawing published by the INPI in the Industrial Property Gazette.
The patent was granted on 09/03/2024 and is in force until 04/27/2038. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:04/27/2038
Latest action published by the INPI: 09/03/2024. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
ELETROSUL CENTRAIS ELETRICAS S/A
SC, BR
UNIÃO BRASILEIRA DE EDUCAÇÃO E ASSISTÊNCIA, MANTENEDORA DA PUCRS
PROCESSO DE DIFUSÃO DE DOPANTE TIPO P E TIPO N EMLÂMINAS DE SILÍCIO NA MESMA ETAPA TÉRMICA. A presente invenção apresenta um processo de difusão de dopantes para produção de células solares com a difusão de dopante p+ (boro, alumínio, gálio, etc.) e difusão de fósforo em lâminas de silício cristalino e recozimento na mesma etapa térmica, para diminuir as etapas e tempo de fabricação de células solares e, consequentemente, reduzir o custo de produção. A presente invenção se situa nos campos de dispositivos de conversão de energia solar, mais especificamente refere-se a células solares.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Concessão da patente
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 27/04/2018, observadas as condições legais
09/03/2024
RPI 2800
Deferimento
#9.1
06/11/2024
RPI 2788
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
02/15/2024
RPI 2771
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
10/17/2023
RPI 2754
Publicação do pedido de patente
#3.1
11/12/2019
RPI 2549
Pedido de patente depositado
#2.1
09/11/2018
RPI 2488
Requerimento de pedido de patente
#2.10
Número de Protocolo '870180034456' em 27/04/2018 11:50 (WB)
