PROCESSO DE PRODUÇÃO DE LÂMINA DE SILÍCIO PELA ASPERSÃO TÉRMICA A PLASMA, PARA FINS FOTOVOLTAICOS

IPC Classification

Abstract

Processo para obtenção de lâminas pelo agrupamento do processo de aspersão térmica a plasma ? APS, com um substrato específico que irá permitir a delaminação da camada, e dessa forma a produção de uma lâmina. Para isto, será necessário fundir as partículas da matéria prima, durante a aspersão das mesmas, em uma temperatura superior e próxima a temperatura de fusão dessas partículas. Estas partículas no voo durante a aspersão e com o resfriamento da temperatura chegando ao estado de solidificação, quando chocarem no substrato irão soldar umas às outras e construir uma camada. Mantendo as condições de aspersão citadas acima, um substrato quetenha as propriedades necessárias para resistir às exigências térmicas durante a deposição, e que com o controle do molhamento das partículas líquidas, o processo de delaminação desse recobrimento sob o substrato, ocorrerá naturalmente, formando a lâmina. O controle da granulometria e a homogeneidade na temperatura das partículas e na área recoberta, permite dessa forma, a produção de splats com formas adequadas que resulta em uma camada com menos tensões internas, empenamentos e também a formação de vazios e defeitos de solda tão prejudiciais a camada. Assim, devido ao baixo custo desse processo e a possibilidade da aspersão em ambientes sem contaminantes, as lâminas produzidas podem atuar em diversos segmentos industriais, destacando o fotovoltaico, eletro-eletrônico e aplicações como barreiras térmicas, em implantes na medicina, e outros.