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Official data from INPI

COMPOSIÇÃO COSMÉTICA PÓS ESTRESSE E MÉTODO PARA APLICAÇÃO DE COMPOSIÇÃO

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

102017028034

Type

Invention Patent

Filing

12/22/2017

Publication

08/07/2018

Progress at the INPI

  1. Filing12/22/17
  2. Publication08/07/18
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 02/08/2022. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

LUTETIA COMERCIO ATACADISTA DE PRODUTOS PARA HIGIENE LTDA-ME

SP, BR

Inventors

C. L. (pessoa física)

BR

Technical data

Abstract

A presente invenção se refere ao campo de cuidados pessoais da pele, particularmente a uma composição cosmética pós estresse para ser aplicada de maneira tópica sobre a pele após a mesma ter passado por um processo de estresse, se refere também é um método de aplicação da dita composição.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2650 de 19-10-2021 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

02/08/2022

RPI 2666

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 4ª anuidade.

10/19/2021

RPI 2650

15.7

Desconhecida a petição nº 870180059450 de 10/07/2018 com base no disposto no art. 219, II da Lei da Propriedade Industrial, haja vista que não atende ao disposto no art. 3º, §1º da Resolução 211/18.

10/09/2018

RPI 2492

Publicação antecipada

#3.2

08/07/2018

RPI 2483

Pedido de patente depositado

#2.1

07/17/2018

RPI 2480

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870170101534' em 22/12/2017 17:16 (WB)

01/02/2018

RPI 2452

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