Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
07/21/2020
RPI 2585
Application data
Number
102017002201Type
Filing
Publication
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 02/02/2017 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 07/21/2020. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
J. S. (pessoa física)
ES, BR
Inventors
J. S. (pessoa física)
BR
IPC Classification
Abstract
MOLDE PARA SIMETRIA DE MAQUIAGEM DOS OLHOS caracterizado por um molde que configura uma máscara, esta dotada de torres laterais entre as quais, verificam-se alívios posicionados abaixo dos olhos, cujas arestas inferiores descrevem-se obliquas e separados por uma haste nasal, acima da qual verificam-se faixas divisoras de sobrancelhas.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.1.1
07/21/2020
RPI 2585
#11.1
02/18/2020
RPI 2563
#3.1
08/21/2018
RPI 2485
#2.1
06/12/2018
RPI 2475
#2.10
Número de Protocolo '025170000001' em 02/02/2017 14:53 (ES)
05/22/2018
RPI 2472
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