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Official data from INPI

MÉTODO, SISTEMA DE LEVANTAMENTO ELETROMAGNÉTICO, MÉTODO PARA FABRICAR UM PRODUTO DE DADOS GEOFÍSICOS E MEIO NÃO TRANSITÓRIO LEGÍVEL POR COMPUTADOR

ExtintaInvention Patent

Application data

Invention Patent MÉTODO, SISTEMA DE LEVANTAMENTO ELETROMAGNÉTICO, MÉTODO PARA FABRICAR UM PRODUTO DE DADOS GEOFÍSICOS E MEIO NÃO TRANSITÓRIO LEGÍVEL POR COMPUTADOR — IPC G01V 3/34
Invention Patent MÉTODO, SISTEMA DE LEVANTAMENTO ELETROMAGNÉTICO, MÉTODO PARA FABRICAR UM PRODUTO DE DADOS GEOFÍSICOS E MEIO NÃO TRANSITÓRIO LEGÍVEL POR COMPUTADOR — IPC G01V 3/34. Drawing published by the INPI in the Industrial Property Gazette.

Number

102016024118

Type

Invention Patent

Filing

10/17/2016

Publication

07/25/2017

Progress at the INPI

  1. Filing10/17/16
  2. Publication07/25/17
  3. Examination
  4. Allowance11/30/21
  5. Grant01/25/22
  6. Terminated11/28/23

The patent was granted on 01/25/2022 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 11/28/2023. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

P. A. (pessoa física)

NO

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Inventors

C. S. (pessoa física)

SE

L. B. (pessoa física)

SE

Technical data

IPC Classification

Priority claims

US

15/280,739 · 09/29/2016

US

62/246,300 · 10/26/2015

Abstract

A presente invenção refere-se a métodos e a sistemas para a produção de modelagem de fonte bipolar com cargas computacionais reduzidas. Um método pode compreender receber o primeiro dado eletromagnético e o segundo dado eletromagnético a partir de um primeiro ponto de tiro e um segundo ponto de tiro de um levantamento eletromagnético marinho, modelar um primeiro campo eletromagnético e um segundo campo eletromagnético para uma ou mais fontes dipolo de uma fonte bipolar e combinar uma pluralidade de pontos de dados para fornecer uma aproximação de um campo eletromagnético à fonte bipolar. Um sistema pode compreender os sensores eletromagnéticos, uma fonte bipolar, em que a fonte bipolar compreende um par de eletrodos que são separados a uma distância, em que a fonte bipolar é configurada para gerar um campo eletromagnético, e um sistema de processamento de dados configurado para receber dados eletromagnéticos a partir de uma pluralidade de pontos de tiro da fonte bipolar e modelar os campos eletromagnéticos para uma ou mais fontes dipolo da fonte bipolar a partir dos dados eletromagnéticos.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2744 de 08-08-2023 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

11/28/2023

RPI 2760

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 7ª anuidade.

08/08/2023

RPI 2744

Concessão da patente

#16.1

20 (vinte) anos contados a partir de 17/10/2016, observadas as condições legais

01/25/2022

RPI 2664

Deferimento

#9.1

11/30/2021

RPI 2656

Exigência preliminar

#6.21

05/19/2020

RPI 2576

Publicação do pedido de patente

#3.1

07/25/2017

RPI 2429

Pedido de patente depositado

#2.1

11/22/2016

RPI 2394

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo 870160060147 em 17/10/2016 11:15(WB).

10/25/2016

RPI 2390

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