UNIDADE DE EXPOSIÇÃO, MECANISMO DE EXPOSIÇÃO E DISPOSITIVO DE FORMAÇÃO DE IMAGEM

IPC Classification

Priority claims

Abstract

Descreve-se uma unidade de exposição que compreende um emissor de feixe de laser para emitir um feixe de laser correspondente ao sinal de exposição; uma parte espelho poligonal rotativo incluindo um espelho poligonal rotativo para receber e desviar o feixe de laser; uma lente F-teta para receber o feixe de laser desviado e gerar um feixe focalizado para emissão; e vários refletores sequencialmente dispostos num percurso óptico predeterminado cujo ponto de partida é a lente f-teta e cujo ponto de extremidade é uma superfície de um tambor fotocondutor na unidade de formação da imagem, e sequencialmente organizados de acordo com as distâncias de separação predeterminadas para receber o feixe focado e refletir o feixe focado várias vezes ao longo do percurso óptico predeterminado, de modo a fazer com que o feixe focado chegue à superfície do tambor fotocondutor, em que, os vários refletores plural incluem um refletor plano e um refletor de extremidade, o refletor de vanguarda sendo utilizado para receber o feixe focado, o refletor de extremidade sendo utilizado para refletir o feixe focado para a superfície do tambor fotocondutor; e uma distância a partir do refletor de extremidade para a superfície do tambor fotocondutor é inferior às distâncias de separação pré-determinadas e a uma distância do refletor de vanguarda para espelho poligonal rotativo.