Publicação do pedido arquivado definitivamente
#3.6
03/20/2018
RPI 2463
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Official data from INPI
MÉTODO DE CONTROLE DE GRAU DE LIBERDADE EM SISTEMAS MECATRÔNICOS E MONOCROMADOR DE DUPLO CRISTAL
Em AnáliseInvention Patent
Application data
Number
102016020900Type
Invention Patent
Filing
09/09/2016
Publication
03/20/2018
Progress at the INPI
- Filing09/09/16
- Publication03/20/18
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned at the INPI. The case ended without a patent and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 03/20/2018. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
CNPEM - CENTRO NACIONAL DE PESQUISA EM ENERGIA E MATERIAIS
SP, BR
Inventors
M. S. (pessoa física)
BR
R. G. (pessoa física)
BR
R. C. (pessoa física)
BR
Technical data
IPC Classification
Abstract
A presente invenção trata de um método de ajuste de grau de liberdade em sistemas mecatrônico e a uma concretização desse método através de um monocromadores de duplo cristal trabalhando na forma de uma malha fechada (realimentada) garantindo a estabilidade do cristal off-set e o paralelismo entre ambos. Através de atuadores de força (de baixa rigidez mecânica), massa de reação e instrumento metrológico pode-se obter o controle desejado, isto é, com banda de controle em malha fechada da ordem de centenas de Hz. No caso do monocromador de cristal duplo, esse ganho de controle é aplicado à estabilização da posição relativa entre os cristais no tempo em ordem nanométrica.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento - Art. 17 §2° da LPI
#11.11
Prioridade interna do BR 102017019178-8
02/20/2018
RPI 2459
Pedido de patente depositado
#2.1
12/27/2016
RPI 2399
Exigência - art. 21 da LPI
#2.5
11/08/2016
RPI 2392
Requerimento de pedido de patente
#2.10
Número de Protocolo 870160050544 em 09/09/2016 04:50(WB).
09/20/2016
RPI 2385
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