Invention Patent DISPOSITIVO E PROCESSO DE TESTE ESTRUTURAL SIMULTÂNEO E SERIAL DE CIRCUITOS INTEGRADOS EM LÂMINA DE SILÍCIO de CENTRO NACIONAL DE TECNOLOGIA ELETRÔNICA AVANÇADA S.A. — IPC G01R 31/26. Drawing published by the INPI in the Industrial Property Gazette.
The patent was granted on 02/06/2024 and is in force until 08/05/2036. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:08/05/2036
Latest action published by the INPI: 02/06/2024. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
CENTRO NACIONAL DE TECNOLOGIA ELETRÔNICA AVANÇADA S.A.
MECANISMO DE TESTE ESTRUTURAL SIMULTÂNEO E SERIAL DE CIRCUITOS INTEGRADOS EM LÂMINA DE SILÍCIO E PROCEDIMENTO DE TESTE ESTRUTURAL SIMULTÂNEO E SERIAL DE CIRCUITOS INTEGRADOS EM LÂMINA DE SILÍCIO. Novo mecanismo e procedimento para teste estrutural simultâneo e serial de circuitos integrados em lâmina de silício (wafer), o qual propõe uma solução completa, simples e de baixo custo para teste dos circuitos integrados que possibilita a realização do teste estrutural simultâneo de vários circuitos em um wafer, mantendo a capacidade de qualquer teste serial desses circuitos, reduzindo drasticamente o tempo de teste de produção de circuitos integrados que atualmente é muito alto e que causa grande impacto no custo dos mesmos. Tendo como proposta reduzir o tempo de teste de produção de circuitos integrados, através da execução simultânea do teste estrutural de vários circuitos integrados; reduzir o custo de circuitos integrados, através da diminuição do tempo de teste de produção; aumentar a competitividade dos produtos, através da redução de custo; diminuir o tempo até a venda (?Time-To-Market?), através da utilização do mesmo mecanismo de teste para testes de prototipação (bringup) e produção; e aumentar a vazão da testadora de circuitos integrados, através da execução simultânea de testes estruturais.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Concessão da patente
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 05/08/2016, observadas as condições legais
02/06/2024
RPI 2770
Deferimento
#9.1
01/02/2024
RPI 2765
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
06/06/2023
RPI 2735
Exigência preliminar (variante)
#6.22
08/09/2022
RPI 2692
Publicação do pedido de patente
#3.1
03/06/2018
RPI 2461
Pedido de patente depositado
#2.1
10/18/2016
RPI 2389
Requerimento de pedido de patente
#2.10
Número de Protocolo 870160042112 em 05/08/2016 02:47(WB).
