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Official data from INPI

COMPOSIÇÕES COSMÉTICAS E/OU DERMATOLÓGICAS COMPREENDENDO SISTEMAS BIOGÊNICOS, PROCESSO DE PRODUÇÃO E SEU USO

Em AnáliseInvention Patent

Application data

Number

102016008597

Type

Invention Patent

Filing

04/18/2016

Publication

10/24/2017

Progress at the INPI

Under appeal
  1. Filing04/18/16
  2. Publication10/24/17
  3. Examination
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

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Applicants and inventors

Applicants

ACHÉ LABORATÓRIOS FARMACÊUTICOS S.A.

SP, BR

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Inventors

M. H. (pessoa física)

BR

M. M. (pessoa física)

BR

Technical data

Abstract

RESUMO COMPOSIÇÕES COSMÉTICAS E/OU DERMATOLÓGICAS COMPREENDENDO SISTEMAS BIOGÊNICOS, PROCESSO DE PRODUÇÃO E SEU USO Composições cosméticas compreendendo sistemas biogênicos, processo de produção e seu uso composições de uso tópico contendo uma combinação de ativos para tratamento de pele única compreendendo pelo menos ácido hialurônico, ou seus sais correspondentes e um sistema biogênico primário em associação com um veículo cosmeticamente aceitável. Preferivelmente, a composição da presente invenção também compreende um sistema biogênico primário e um sistema biogênico secundário. Mais preferivelmente, a composição compreendendo ainda um peptídeo, vantajosamente, um tripeptídeo. A invenção também prevê o uso de composições por meio da aplicação tópica, à pele. A invenção se situa no campo da cosmecêutica.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Petição de recurso

#12.2

Recurso: 870210083633 - 10/09/2021

09/21/2021

RPI 2646

Indeferimento

#9.2

07/13/2021

RPI 2636

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

01/12/2021

RPI 2610

Exigência preliminar (variante)

#6.22

12/17/2019

RPI 2554

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

04/09/2019

RPI 2518

Publicação do pedido de patente

#3.1

10/24/2017

RPI 2442

Pedido de patente depositado

#2.1

06/21/2016

RPI 2372

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo 860160083899 em 18/04/2016 01:46(WB).

05/03/2016

RPI 2365

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