Abstract
PROCESSO DE REVESTIMENTOS DE SUPERFÍCIES COM DLC (DIAMOND-LIKE CARBON) VIA CONFINAMENTO PARCIAL DE ELÉTRONS E ÌONS. Trata-se este invento de um novo processo de revestimento de substratos metálicos e/ou não metálicos, utilizando o princípio de descarga em Plasma PECVD (do Inglês - Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition), caracterizado pelo fato de, pela primeira vez, ser possível obter uma descarga estável em pressões bem mais baixas, cerca de 10-2 Pa, que as técnicas que usam o princípio PECVD convencional, cerca de 5 Pa. Desta forma, o livre caminho médio dos átomos e/ou moléculas no interior da câmara é bastante grande, maior que as dimensões da própria câmara de vácuo. Neste caso, o regime de operação torna-se sem colisões entre átomos e moléculas, proporcionando uma distribuição mais estreita de energia dos íons, precursores do revestimento e deslocada, em média, para energias maiores. A colisão destes íons mais energéticos e sem colisões contribuirão para uma implantação e/ou sub implantação iõnica mais profunda e com maior probabilidade de reações químicas na superfície, e mesmo em camadas abaixo da superfície, contribuindo para uma maior aderência entre substrato e revestimento, bem como um revestimento mais denso e de propriedades superiores.
