SISTEMA DE DEPOSIÇÃO DE VAPOR QUÍMICO, ESTRUTURA DE SISTEMAS DE DEPOSIÇÃO DE VAPOR QUÍMICO E MÉTODO DE DEPOSIÇÃO DE VAPOR QUÍMICO

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Abstract

SISTEMA DE DEPOSIÇÃO DE VAPOR QUÍMICO, ESTRUTURA DE SISTEMAS DE DEPOSIÇÃO DE VAPOR QUÍMICO E MÉTODO DE DEPOSIÇÃO DE VAPOR QUÍMICO. Refere-se a invenção com um sistema de deposição de vapor químico, um método e uma estrutura de sistemas. Os sistemas incluem uma câmara de revestimento, um sistema de introdução de fluído e uma estrutura de elementos de aquecimento radiante. A câmara de revestimento possui uma borda delimitadora que se estende em torno de uma região de revestimento e uma parte de acesso posicionada em uma orientação axial em relação à borda delimitadora, com a câmara de revestimento em uma posição horizontal e fixa. O sistema de introdução de fluido inclui uma bomba de vácuo e uma estrutura de introdução de fluido planejada e disposta para introduzir um fluido na câmara de revestimento para o revestimento por deposição de vapor químico de um artigo na câmara de revestimento. Uma estrutura de elementos de aquecimento radiante está posicionada fora da câmara de revestimento e é termicamente conectada com a borda delimitadora da câmara de revestimento para as zonas de calor dentro da câmara de revestimento. O método usa o sistema. A estrutura inclui mais de um dos sistemas de deposição de vapor químico.