PROCESSO DE ESGOTAMENTO DE NANOPARTÍCULAS ORGÂNICAS E INORGÂNICAS EM SUBSTRATO TÊXTEIS (MALHA, TECIDO E NÃO-TECIDO) COM O USO DE MÁQUINA DE TINGIMENTO FECHADA E CONTROLE DE TEMPO, TEMPERATURA E PRESSÃO

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Abstract

"PROCESSO DE ESGOTAMENTO DENANOPARTÍCULAS ORGÂNICAS E INORGÂNICAS EM SUBSTRATOS TÊXTEIS(MALHA, TECIDO E NÃO-TECIDO) COM O USO DE MÁQUINA DE TINGIMENTOFECHADA E CONTROLE DE TEMPO, TEMPERATURA E PRESSÃO".A presente invenção pertence ao ramo do processo de dopagem de nanopartículasmetálicas inorgânicas (Au, Ag, Zn, Ti, Cu) e orgânicas (quitosana, celulose equeratina) em substratos têxteis (malhas, tecidos e não tecidos), que conferepropriedades antimicrobianas, bactericidas e de proteção ultravioleta. A presenteinvenção pertence ao ramo do beneficiamento têxtil, mais especificamente nosprocessos de acabamento final, o qual confere propriedades biomédicas ao materialimpregnado com as nanopartículas inorgânicas e orgânicas sintetizadas. O mesmorefere-se a um processo que é caracterizado pelo uso de um equipamento da famíliadas autoclaves, da família dos overflows e da família dos turbos e dos foulards, similaraos equipamentos utilizados nas indústrias têxteis, com pressão em torno de 4 Bar a 8Bar, com índices de força colorística (K/S) na faixa de 1,00 a 3,00 (dependendo do tipode substrato), e o processo de exaustão das nanopartículas é realizado a umatemperatura na faixa de 30°C a 70°C em substratos têxteis de fibras proteicas,celulósicas e sintéticas e/ou química, com velocidade na faixa de 1 rpm a 40 rpm(rotações por minuto), e por um tempo de 1 minuto a 40 minutos, com gradiente de0,1°C a 2°C por minuto. Após o processo de esgotamento/exaustão o substrato é secoem temperatura na faixa de 10°C a 35°C