Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
09/15/2020
RPI 2593
Back to search
Official data from INPI
MÉTODO PARA FABRICAR UM DISPOSITIVO SEMICONDUTOR E DISPOSITIVO SEMICONDUTOR
ArquivadaInvention Patent
Application data
Number
102014016375Type
Invention Patent
Filing
07/01/2014
Publication
05/31/2016
Progress at the INPI
- Filing07/01/14
- Publication05/31/16
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 09/15/2020. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
GENERAL ELECTRIC COMPANY
US
Inventors
A. B. (pessoa física)
US
P. L. (pessoa física)
US
S. K. (pessoa física)
US
Technical data
IPC Classification
Priority claims
US
13/933,366 · 07/02/2013
Abstract
MÉTODO PARA FABRICAR UM DISPOSITIVO SEMICONDUTOR E DISPOSITIVO SEMICONDUTOR. [001] Trata-se de um método para fabricar um dispositivo semicondutor. O método inclui fornecer uma camada semicondutora que compreende carboneto de silício, em que a camada semicondutora compreende uma primeira região dopada com um primeiro tipo de dopante. O método inclui adicionalmente implantar a camada semicondutora com um segundo tipo de dopante com o uso de uma única máscara de implantação e uma dose de implantação substancialmente similar para formar uma segunda região e uma extensão de terminação de junção (JTE) na camada semicondutora, em que a dose de implantação esta em uma faixa de cerca de 2 x 1013 cm'2 a cerca de 12 x 1013 cm'2. Dispositivos semicondutores são também apresentados.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Exigência preliminar
#6.21
04/14/2020
RPI 2571
Notificação de acesso ao patrimônio genético
#6.6.1
11/06/2018
RPI 2496
Publicação do pedido de patente
#3.1
05/31/2016
RPI 2369
Pedido de patente depositado
#2.1
10/29/2014
RPI 2286
Requerimento de pedido de patente
#2.10
Número de Protocolo 18140012673 em 01/07/2014 03:21(SP).
08/19/2014
RPI 2276
Related
From the same holder
DISPOSITIVO SEMICONDUTOR E MÉTODO DE FABRICAÇÃO DE UM DISPOSITIVO SEMICONDUTORSISTEMA E MEIO LEGÍVEL POR COMPUTADOR NÃO TRANSITÓRIOMÉTODO E SISTEMA PARA TRATAMENTO DE UM MATERIAL CARBONÁCEOUNIDADE DE SEPARAÇÃO DE CARVÃO PARA UM SISTEMA DE GASEIFICAÇÃO, SISTEMA DE GASEIFICAÇÃO PARA CARVÃO COM CONTEÚDO DE ALTO TEOR DE CINZAS E MÉTODO PARA REDUZIR O CONTEÚDO DE CINZAS DE UM FLUXO DE ALIMENTAÇÃO COM ALTO TEOR DE CINZAS EM UM SISTEMA DE GASEIFICAÇÃOANEL DE MANCAL, MÁQUINA DINAMOELÉTRICA E MÉTODO PARA FORMAÇÃO DE UM MANCAL ISOLADOSISTEMA E MÉTODOSISTEMA DE SINCRONIZAÇÃO
Patent monitoring
Track this patent in real time.
Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.