Official data from INPI

RESINA DE POLIÉSTER QUE COMPREENDE ÁCIDO GÁLICO E DERIVADOS DO MESMO

ArquivadaInvention Patent

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Application data

Number

102014008246

Type

Invention Patent

Filing

04/04/2014

Publication

10/20/2015

View on INPI

Progress at the INPI

Filing04/04/14
Publication10/20/15
Abandoned
Allowance
Grant
In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 07/21/2020. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

X. C. (pessoa física)

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Inventors

G. S. (pessoa física)

K. Z. (pessoa física)

M. S. (pessoa física)

Technical data

IPC Classification

C07B 41/00 C07C 68/06 C08G 63/02

Priority claims

13/874,377 · 04/30/2013

Abstract

RESINA DE POLIÉSTER QUE COMPREENDE ÁCIDO GÁLICO E DERIVADOS DO MESMO. A atual divulgação provê uma resina de poliéster para toner que compreende ácido gálico para uso em fabricação de um toner de agregação de emulsão (EA) para dispositivos de imagem.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

07/21/2020

RPI 2585

Exigência preliminar

#6.21

01/21/2020

RPI 2559

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

02/27/2018

RPI 2460

Publicação do pedido de patente

#3.1

10/20/2015

RPI 2337

Pedido de patente depositado

#2.1

10/29/2014

RPI 2286

Exigência - art. 21 da LPI

#2.5

07/15/2014

RPI 2271

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo 860140045159 em 04/04/2014 04:48(WB).

04/22/2014

RPI 2259

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