Application data
Number
102013029996Type
Filing
Publication
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 03/23/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Plasmar Indústria Metalúrgica Ltda.
RS, BR
Inventors
C. F. (pessoa física)
BR
M. F. (pessoa física)
AR
IPC Classification
Abstract
REATOR A PLASMA DE TENSÃO CONTÍNUA OU PULSADA DE DESCARGA LUMINESCENTE INTENSA A BAIXA PRESSÃO POR CONFINAMENTO ELETROSTÁTICO E PROCESSOS A PLASMA MELHORADOS POR TAL TIPO DE REATOR. Reator a plasma de tensão contínua ou pulsada caracterizado por um sistema multi-cátodo e multi-ânodo composto de barras cilíndricas de aço dispostas a diferentes distâncias do centro do reator e a diferentes alturas base-topo mediante o uso de pratos circulares de aço para fixação e organização das barras catódicas e anódicas e, ainda, os processos a plasma melhorados por tal tipo de reator em uma faixa de pressão de processo entre 10 e 100 Pa.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2605 de 08-12-2020 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
03/23/2021
RPI 2620
#8.6
Referente à 7ª anuidade.
12/08/2020
RPI 2605
Anulada a publicação código 6.6.1 na RPI nº 2462 de 13/03/2018 por ter sido indevida.
03/20/2018
RPI 2463
#6.6.1
03/13/2018
RPI 2462
#6.6.1
03/06/2018
RPI 2461
#4.3
06/20/2017
RPI 2424
#11.1
03/07/2017
RPI 2409
11/08/2016
RPI 2392
#8.6
Referente à 3ª anuidade.
09/20/2016
RPI 2385
#3.1
09/15/2015
RPI 2332
#2.1
02/25/2014
RPI 2251
#2.6
ANULADA A PUBLICAÇÃO REALIZADA NA RPI 2247 DE 28/01/2014 POR TER SIDO INDEVIDA.
02/18/2014
RPI 2250
#2.5
01/28/2014
RPI 2247
#2.10
Número de Protocolo 860130007995 em 22/11/2013 01:09(WB).
12/10/2013
RPI 2240
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