Concessão da patente
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 30/11/2012, observadas as condições legais
03/02/2021
RPI 2617
Application data
Number
102012030604Type
Filing
Publication
The patent was granted on 03/02/2021 and is in force until 11/30/2032. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:11/30/2032
Latest action published by the INPI: 03/02/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
UNIÃO BRASILEIRA DE EDUCAÇÃO E ASSITÊNCIA - MANTENEDORA DA PUC RS
RS, BR
Inventors
A. M. (pessoa física)
BR
E. Z. (pessoa física)
BR
I. Z. (pessoa física)
BR
IPC Classification
Abstract
PROCESSO PARA FORMAÇÃO DE REGIÕES SELETIVAS EEM CÉLULAS SOLARES COM RADIAÇÃO LASER. A presente invenção se refere ao melhoramento da eficiência de células solares de silício por meio do uso de regiões dopadas de forma seletiva para formar emissores ou regiões de campo retrodifusor. Regiões seletivas são caracterizadas por possuírem uma região altamente dopada e profunda sob a malha metálica das células solares e uma menos dopada e menos profunda nas demais regiões. Na invenção proposta, as regiões altamente dopadas são obtidas a partir de deposição de um dopante líquido por spin-on e posterior difusão por radiação laser. As regiões de menor dopagem e menor profundidae são obtidas com difusão de átomos dopantes provenientes de vapor de dopante ou dopante gasoso. Com o processo proposto obtém-se uma resistência de folha sob malha metálica menor que 20 / e na região sem malha metálica a resistência de folha é maior que 100 / , resultando em valores próximos aos ideais de células solares de alta eficiência.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 30/11/2012, observadas as condições legais
03/02/2021
RPI 2617
#9.1
01/26/2021
RPI 2612
#6.22
01/14/2020
RPI 2558
#6.6.1
12/04/2018
RPI 2500
03/01/2016
RPI 2356
#8.6
Referente à 3ª anuidade.
12/01/2015
RPI 2343
#3.1
09/09/2014
RPI 2279
#2.1
12/24/2013
RPI 2242
#2.5
07/23/2013
RPI 2220
#2.10
Número de Protocolo 20120111330 em 30/11/2012 04:14(RJ).
03/05/2013
RPI 2200
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