APARELHO PARA REALIZAR UM PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE VAPOR QUÍMICO POR PLASMA.

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Abstract

APARELHO PARA REALIZAR UM PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE VAPOR QUÍMICO POR PLASMA - A invenção se refere a um aparelho para realizar um processo de deposição de vapor químico por plasma. O aparelho compreende um ressonador principalmente cilíndrico sendo provido com uma parede cilíndrica externa encerrando uma cavidade ressonante tendo uma conformação simétrica substancialmente rotacional em relação a um eixo cilíndrico. O ressonador ainda inclui porções de parede lateral ligando a cavidade ressonante nas direções do eixo cilíndrico opostas. Além disso, o aparelho compreende um guia de micro-ondas se estendendo através da parede cilíndrica externa dentro da cavidade ressonante. O comprimento da cavidade ressonante na direção cilíndrica varia como uma função da distância radial ao eixo cilíndrico.