Application data
Number
102012025181Type
Filing
Publication
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 11/19/2019. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Zong Jing Investment, Inc.
TW
Inventors
C. W. (pessoa física)
TW
IPC Classification
Priority claims
TW
101105516 · 02/20/2012
Abstract
MÁQUINA DE APLICAÇÃO DE MAQUIAGEM NOS OLHOS. É fornecida uma máquina de aplicação de maquiagem nos olhos, que inclui um fornecedor de cosmético em um protetor de olhos. O dispositivo de controle pode controlar o fornecedor de cosmético para mover para uma utilidade de aplicação de maquiagem para a posição a fim de pulverizar ou aplicar materiais de cosmético em um contorno correspondendo a um olho humano. Desse modo, a invenção pode fornecer uma utilidade de aplicação de maquiagem automática para realizar de forma variada e precisa uma aplicação de maquiagem automática para realizar de forma variada e precisa uma aplicação de maquiagem nos olhos selecionados ou emulados por um ou mais usuários. Uma imagem de contorno dos olhos na invenção pode ser fornecida por um dispositivo de armazenagem interno ou externo ou dispositivo de reconhecimento de imagem. Uma pluralidade de perfis de aplicação de maquiagem pode ser fornecida por um dispositivo de armazenagem interna ou externo ou ser editado pelo usuário como uma opção.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2534 de 30-07-2019 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
11/19/2019
RPI 2550
#8.6
Referente à 7ª anuidade.
07/30/2019
RPI 2534
#6.6.1
12/11/2018
RPI 2501
#3.1
10/29/2013
RPI 2234
#2.1
07/30/2013
RPI 2221
#2.10
Número de Protocolo 20120093013 em 02/10/2012 04:09(RJ).
03/05/2013
RPI 2200
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