(11) 98705-3426
TrademarkIQ iconTrademarkIQ
Back to search
Official data from INPI

BAINHA DE CATETER DE DIÁLISE TRATADA POR PLASMA

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

102012024782

Type

Invention Patent

Filing

09/28/2012

Publication

10/08/2013

Progress at the INPI

  1. Filing09/28/12
  2. Publication10/08/13
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

Talk to a specialist

Latest action published by the INPI: 03/29/2016. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Tyco Healthcare Group LP

US

See this company's full portfolio

Inventors

M. S. (pessoa física)

US

Technical data

Priority claims

US

13/248,436 · 09/29/2011

Abstract

BAINHA DE CATETER DE DIÁLISE TRATADA POR PLASMA. A presente invenção refere-se a um cateter que é revelado. O cateter um corpo tubular alongado que define um eixo geométrico longitudinal e se estende a um extremidade distal do mesmo, sendo que o corpo tubular tem pelo menos um lúmen e uma bainha disposta em torno do corpo tubular configurada para entrar em contato com tecido, sendo que a bainha é formada a partir de um material tratado por plasma que tem propriedades de crescimento de tecido intensificadas.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2343 de 01-12-2015 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

03/29/2016

RPI 2360

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 3ª anuidade.

12/01/2015

RPI 2343

Pedido suspenso — exigência de documentos

#6.6

06/24/2014

RPI 2268

Publicação do pedido de patente

#3.1

10/08/2013

RPI 2231

Pedido de patente depositado

#2.1

07/23/2013

RPI 2220

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo 20120091731 em 28/09/2012 03:38(RJ).

03/12/2013

RPI 2201

Patent monitoring

Track this patent in real time.

Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.