(11) 98705-3426
TrademarkIQ íconeTrademarkIQ
Voltar para busca
Dado oficial do INPI

CONFIGURAÇÃO APLICADA A/EM APLICADOR DE COSMÉTICO

ConcedidoDesenho Industrial
Falar com especialista

Dados do pedido

Desenho industrial CONFIGURAÇÃO APLICADA A/EM APLICADOR DE COSMÉTICO de ELC MANAGEMENT LLC — classe Locarno 28-02
Desenho industrial CONFIGURAÇÃO APLICADA A/EM APLICADOR DE COSMÉTICO de ELC MANAGEMENT LLC — classe Locarno 28-02. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.

Número

302022003716

Depósito

19/07/2022

Publicação

08/11/2022
Ver no INPI

Andamento no INPI

  1. Depósito19/07/22
  2. Exame02/08/22
  3. Registro08/11/22
  4. Em vigor19/07/32

Registro concedido em 08/11/2022 e em vigor até 19/07/2032. Até lá, a forma deste produto não pode ser copiada no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:19/07/2032

Deixe seu contato e avisamos você

Acompanhamos as publicações do INPI e avisamos assim que houver movimentação neste processo.

Usamos seus dados apenas para este aviso.

Última movimentação publicada pelo INPI: 08/11/2022. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e autores

Depositantes

ELC MANAGEMENT LLC

00000004928327

US

Ver toda a carteira desta empresa

Autores

Y. R. (pessoa física)

US

Classificação Locarno

28-02

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão do registro

#39

08/11/2022

RPI 2705

Petição de prioridade unionista

#47.3

Deferida a petição no que se refere à verificação dos aspectos formais do documento de prioridade unionista apresentado. Em referência ao protocolo 870220085225 de 19/09/2022

25/10/2022

RPI 2703

Notificação de depósito

#31

Notificação de depósito (Protocolo: 870220063606 UF: WB Data: 19/07/2022 Hora: 17:24)

02/08/2022

RPI 2691

Relacionados

Explorar categoria: Produtos farmacêuticos e cosméticos

Proteção de design industrial

Monitore este desenho industrial no INPI.

Receba notificações de despachos e decisões do INPI para o seu portfólio de DI.