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ErfindungspatentPI0400466

PROCESSO DE PROTEÇÃO PELICULAR SOBRE GRÂNULO DO SUPER FOSFATO SIMPLES

Indústria Química Kimberlit Ltda

Arquivada/ExtintaIPC C05G 1/00

Stand beim INPI

  1. Eingestellt

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

Mit einem Fachmann sprechen

Letzte vom INPI veröffentlichte Handlung: 30.10.2012. Wir aktualisieren mit jeder neuen, wöchentlich erscheinenden RPI.

Technische Daten

Zusammenfassung

"PROCESSO DE PROTEÇÃO PELICULAR SOBRE GRÂNULO DO SUPER FOSFATO SIMPLES". Compreendendo um conjunto de procedimentos para criar uma proteção pelicular sobre grânulo do super fosfato simples, viabilizando sua mistura com outros fertilizantes, no caso, a uréia, caracterizado pela criação de três grupos de aplicação chamadas POLI-SPRAY, POLI-DRY e POLI-PEEL, em que o POLI-SPRAY é formado pelo polímero MFRL01 que tem como função preparar o super simples para o tratamento e pelo MFR-L02 que tem como função neutralizar a agressividade do super simples para fixar as camadas protetoras e pelo MFRL03 que tem como finalidade preparar a fixação das camadas; e o POLI-DRY é uma mistura de 1 polímero aniônico (AG 04) que tem por finalidade isolar o fosfato monocálcio e 1 polímero SAP (AG 05) que por finalidade encapsular a água captada no sistema; e o POLI-PEEL é constituído do MFRL05 que é um polímero semi-fixador que tem como função dar conformidade no material sólido do POLI-DRY; e o MFRL06 é um polímero com alto poder de fixação para compactar toda a estrutura e para acabamento final.

IPC-Klassifikation

Verfahrensgeschichte

Veröffentlichungen im Brasilianischen Amtsblatt für gewerblichen Rechtsschutz (RPI).

30.10.2012

RPI 2182

Arquivamento definitivo por descumprimento

8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2160 de 29/05/2012.

29.05.2012

RPI 2160

Arquivamento por falta de pagamento

8.6

Referente às 6ª, 7ª e 8ª anuidades.

13.09.2005

RPI 1810

Publicação do pedido de patente

3.1

01.06.2004

RPI 1743

Pedido de patente depositado

2.1